Радиоэлектроника
  • формат pdf
  • размер 709.83 КБ
  • добавлен 08 мая 2011 г.
Каменская А.В., Дикарева Р.П. Технологические процессы в микроэлектронике
Новосибирск: Изд-во НГТУ, 2005. – 44 с.
Учебное пособие составлено на основании Государственного обра-зовательного стандарта высшего профессионального образования. В по-собии описываются технологические процессы получения и очистки кристаллов полупроводников, методы получения окисных слоев кремния. Включено также описание лабораторных работ «Кристаллизационные методы очистки полупроводников» и «Анодное окисление кремния».
Пособие адресовано студентам, обучающимся по специальности.
«Микроэлектроника и твердотельная электроника».

Оглавление:
Кристализационные методы очистки полупроводников.
- Методы выращивания кристаллов полупроводников.
- Направленная кристаллизация в тигле или лодочке.
- Выращивание кристаллов методами зонной плавки.
- Выращивание кристаллов из растворов.
- Метод зонной плавки с градиентом температуры.
- Принцип очистки кристаллизацией.
- Коэффициент распределения.
- Распределение примеси в методе направленной кристаллизации.
Лабораторная работа № 1.
Контрольные вопросы.
Литература.
Анодное окисление полупроводников.
- Методы получения окисных пленок кремния.
- Окисление при высоком давлении.
- Осаждение из газовой фазы.
- Осаждение SiO2 из пленкообразующих растворов.
- Испарение в вакууме.
- Анодное окисление.
- Цветовой метод контроля толщины.
- Строение границы раздела полупроводник–электролит. Поверхностные свойства полупроводника.
- Заряженные слои на границе полупроводник-электролит.
- Анодные реакции на кремниевом электроде.
- Анодное окисление при постоянном токе.
- Анодное окисление при постоянном напряжении.
Лабораторная работа № 2.
Контрольные вопросы.
Литература.
Похожие разделы
Смотрите также

Ватанабэ М., Асада К., Кани К., Оцуки Т. Проектирование СБИС

  • формат djvu, txt
  • размер 6.92 МБ
  • добавлен 29 октября 2009 г.
Книга является переводом третьего тома 11-томной серии по микроэлектронике, написанной крупными японскими специалистами.

Ефимов И.Е., Козырь И.Я. Основы микроэлектроники

  • формат pdf
  • размер 38.89 МБ
  • добавлен 13 января 2011 г.
Учебник. 3-е изд., стер. — СПб.: Издательство «Лань», 2008. — 384 с.: ил. — (Учебники для вузов. Специальная литература). В учебнике изложены основные направления развития микроэлектроники: рассмотрены физические основы, конструкция, технология, структурные элементы и аспекты проектирования интегральных микросхем (ИМС) и больших интегральных схем (БИС). Рассмотрены отдельные технологические процессы, схемотехнические решения, машинные методы прое...

Каменская А.В., Дикарева Р.П. Технологические процессы в микроэлектронике

  • формат rtf
  • размер 17.98 МБ
  • добавлен 08 мая 2011 г.
Новосибирск: Изд-во НГТУ, 2005. – 44 с. Учебное пособие составлено на основании Государственного обра-зовательного стандарта высшего профессионального образования. В по-собии описываются технологические процессы получения и очистки кристаллов полупроводников, методы получения окисных слоев кремния. Включено также описание лабораторных работ «Кристаллизационные методы очистки полупроводников» и «Анодное окисление кремния». Пособие адресовано студ...

Куликовский А.А. Справочник по элементам радиоэлектронных устройств

  • формат djvu
  • размер 14.21 МБ
  • добавлен 02 апреля 2010 г.
Справочная серия Радиоэлектроника. Москва Энергия 1977 г.568 стр. Разделов 8. В спровочнике даны вопросы по электронным и полупроводниковым приборам, микроэлектронике, компоненты R.L.C, квановая электрнике, электромеханические элементы РЭА, волноводы и антенны.

Палатник Л.С., Сорокин В.К. Материаловедение в микроэлектронике

  • формат djvu
  • размер 3.55 МБ
  • добавлен 08 марта 2010 г.
М.: Энергия, 1978, 280 с. В книге освещены основные вопросы материаловедения в области микроэлектроники. Рассматриваются поверхностные свойства полупроводников, металлов и диэлектриков, вопросы адсорбции на поверхности газов и паров, вопросы диффузии и приповерхностный слой примесей, в также методы нанесения и свойства пленочных материалов: проводящих, сверхпроводящих, магнитных, резистивных пленок и эпитаксиальных пленок кремния. Книга предназна...

Скубилин М.Д., Поляков В.В, Спиридонов Б.Г. Электронная техника: производство и применение

  • формат pdf
  • размер 8.77 МБ
  • добавлен 06 ноября 2011 г.
Таганрог, ТТИ ЮФУ, 2010. - 320 с. Рассмотрены принципы схемотехнических решений элементов и узлов электронной аппаратуры, проектирования, моделирования и автоматизации производства, технологическое оборудование. Описаны физико-технологические основы процессов микроэлектроники, сборки, монтажа и защиты электронной аппаратуры от климатических воздействий. Приводятся сведения по обработке результатов мониторинга за функционированием средств электро...

Степаненко И.П. Основы микроэлектроники

  • формат djvu
  • размер 2.38 МБ
  • добавлен 22 октября 2007 г.
Учебное пособие для вузов. Изд. 2-е перераб. и доп. М.: Лаборатория базовых знаний, 2001г. - 488с., ил. Рассмотрены основные аспекты микроэлектроники: физические, технологические и схемотехнические. Дается представление об уровне современной микроэлектроники, ее методах, средствах, проблемах и перспективах. Обсуждаются виды интегральных схем и схемотехника цифровых и аналоговых ИС. Во 2-ом издании отражены новые фундаментальные достижения в обл...

Степаненко И.П. Основы теории транзисторов и транзисторных схем

  • формат djvu
  • размер 8.77 МБ
  • добавлен 01 декабря 2008 г.
Издание 4е переработанное и доп. М., "Энергия" 1977. 672 стр. В книге проводятся анализ и расчет основных типов транзисторных усилителей, импульсных схем и источников питания. Анализу схем предшествует рассмотрение физических процессов в полупроводниковых диодах и транзисторах и характеристик диодов и транзисторов в качестве схемных элементов. Существенно переработана по сравнению с третьим- изданием, вышедшим в 1978 г., первая часть книги, во...

Сугано Т., Икома Т., Такэиси Е. Введение в микроэлектронику. Том 1

  • формат djvu
  • размер 7.84 МБ
  • добавлен 06 марта 2010 г.
Пер. с яп. - М.: Мир, 1988, 320 с. Книга является переводом первого тома 11-томной серии по микроэлектронике, написанной крупными японскими специалистами. В эту серию входят книги, дающие исчерпывающий обзор современного состояния методов конструирования, технологии производства и применений интегральных схем. Излагаются методы проектирования и изготовления интегральных схем, а также их базовые структуры. Большое внимание уделено новой технологии...

Фути К., Судзуки Н. Языки программирования и схемотехника СБИС

  • формат djvu
  • размер 2.88 МБ
  • добавлен 03 декабря 2011 г.
Фути К., Судзуки Н. Языки программирования и схемотехника СБИС: Пер. с япон. — М.: Мир, 1988. — 224 с, ил. ISBN 5—03—000399—1 Книга является переводом седьмого тома 11-томноЙ серии по микроэлектронике, написанной видными японскими специалистами. Она посвящена созданию системного программного обеспечения ЭВМ пятого поколения с использованием элементов искусственного интеллекта. Особое внимание уделено сопоставлению языков логического программирова...