Учебник для вузов. — 2-е изд. перераб. и доп. — М.: МИСИС, 1995. —
493 с.
Во втором издании учебника (первое вышло в 1982 г.) на современном
уровне представлены общие положения термодинамики необратимых
процессов; закономерности диффузии и термокинетики в неподвижной и
движущейся средах, макрокинетики гетерогенных процессов;
математическое описание двухфазных равновесий; P—T—x
диаграммы состояния, их проекции и сечения. Рассмотрены
материальный баланс, термодинамика и кинетика широко используемых
процессов получения материалов из паровой, парогазовой и жидкой
фаз. На атомно-молекулярном уровне описана кинетика процессов
получения эпитаксиальных слоев, пленок и монокристаллов. Впервые
изложены методы нетермической активации и плазмохимические
процессы, причины возникновения дефектов при ионном воздействии на
материалы.
Предназначен для студентов вузов, обучающихся по направлению «Электроника и микроэлектроника» и специальности «Материалы и компоненты твердотельной электроники». Предисловие.
Общие химико-термодинамические, макро- и термокинетические закономерности процессов получения полупроводниковых материалов.
Фазовые и химические равновесия в технологических процессах.
P—T—x диаграммы состояния и их использование для выбора параметров технологических процессов.
Приложение термодинамики необратимых процессов к процессам полупроводниковой.
Диффузия и термокинетика в движущейся среде.
Макрокинетика гетерогенных химических процессов.
Основные процессы получения полупроводниковых материалов и их математическое описание.
Процессы очистки, основанные на фазовом переходе жидкость-пар, и получения эпитаксиальных слоев, пленок и монокристаллов из паровой фазы.
Процессы получения эпитаксиальных слоев и монокристаллов кристаллизацией из парогазовой фазы при водородном восстановлении и термической диссоциации.
Процессы получения эпитаксиальных слоев и монокристаллов кристаллизацией из парогазовой фазы с использованием химических транспортных реакций.
Процессы получения монокристаллов из расплавов.
Процессы получения эпитаксиальных слоев и монокристаллов из растворов-расплавов.
Атомные и ионные процессы получения материалов и компонентов электронной техники.
Основы атомно-молекулярных процессов кристаллизации.
Ионные процессы получения и обработки материалов.
Характеристика основных методов нетермической активации процессов получения материалов.
Рекомендательный список.
Предназначен для студентов вузов, обучающихся по направлению «Электроника и микроэлектроника» и специальности «Материалы и компоненты твердотельной электроники». Предисловие.
Общие химико-термодинамические, макро- и термокинетические закономерности процессов получения полупроводниковых материалов.
Фазовые и химические равновесия в технологических процессах.
P—T—x диаграммы состояния и их использование для выбора параметров технологических процессов.
Приложение термодинамики необратимых процессов к процессам полупроводниковой.
Диффузия и термокинетика в движущейся среде.
Макрокинетика гетерогенных химических процессов.
Основные процессы получения полупроводниковых материалов и их математическое описание.
Процессы очистки, основанные на фазовом переходе жидкость-пар, и получения эпитаксиальных слоев, пленок и монокристаллов из паровой фазы.
Процессы получения эпитаксиальных слоев и монокристаллов кристаллизацией из парогазовой фазы при водородном восстановлении и термической диссоциации.
Процессы получения эпитаксиальных слоев и монокристаллов кристаллизацией из парогазовой фазы с использованием химических транспортных реакций.
Процессы получения монокристаллов из расплавов.
Процессы получения эпитаксиальных слоев и монокристаллов из растворов-расплавов.
Атомные и ионные процессы получения материалов и компонентов электронной техники.
Основы атомно-молекулярных процессов кристаллизации.
Ионные процессы получения и обработки материалов.
Характеристика основных методов нетермической активации процессов получения материалов.
Рекомендательный список.