Презентация Радиационные и плазменные технологии обработки материалов

М.: ЦНИИатоминформ, 1984г. - 84с. Анализируется способы и устройства для генерации металлической плазмы, основанные на использовании вакуумно-дугового разряда с расходуемым катодом. Рассматриваются работы, связанные, главным образом, с проблемами ионно-плазменной технологии обработки материалов и техники получения вакуума. Особое внимание уделено вопросам управления плазмой скрещенными E- и H- полями: фокусировке, отклонению, транспортировке и се...

Дж. Бекефи. Радиационные процессы в плазме. Перевод с английского: М. Д. Райзер. Под редакцией А. А. Веденова. Издательство «МИР» Москва, 1971. В своей книге «Радиационные процессы в плазме» автор, сочетал изложение теоретических вопросов с богатейшим экспериментальным материалом, полученным многочисленными исследователями при изучении процессов излучения, поглощения и рассеяния электромагнитных волн плазмой. Книга предназначена для физиков и ин...

Учебное пособие. ГОУВПО Иван. гос. хим. -технол. ун-т. Иваново. 2006. 260 с. Рассмотрены процессы образования активных частиц в плазме и их взаимодействия с поверхностью твердого тела, а так же технологические применения неравновесной плазмы для травления и модификации полимерных и неорганических материалов. Пособие предназначено для студентов специальности «Химическая технология монокристаллов, материалов и изделий электронной техники» и может...

Учебно-методические указания. Учебно-научный комплекс физических технологий Харьковского национального университета им. В.Н. Каразина и Научного физико-технологического центра ХГНУ, Харьков, 1999., 22с. Методические указания могут быть использованы при изучении курсов «Функциональные покрытия», «Современные вакуумно-плазменные технологические системы», которые читаются студентам 4-5 курсов кафедры Физических технологий Физико-технического факульт...

М.: Радио и связь, 1986, 232 стр. Рассматриваются физико-химические основы и принципы применения ионно-плазменной обработки материалов в вакууме с целью очистки их поверхностей, травления на поверхности структур субмикронного размера, а также получения пленочных покрытий различных материалов. Анализируются основные закономерности и теоретические представления о процессах ионно-плазменной обработки, рассматриваются характеристики оборудования дл...

Новосибирск: Наука, 2010. - 334 с. Справочник является пособием по терминологии в сфере радиационных и плазменных технологий. Автор попытался собрать, систематизировать и дать определение терминам, используемым в этой области. Словарь содержит более тысячи слов и словосочетаний с переводом на английский язык. Предназначен для специалистов в области физики твердого тела, материаловедения, атомной энергетики и других смежных наук, а также для студе...

Москва, Энергоатомиздат, 1983, 144 с. Рассмотрены механизмы и принципы обработки органических полимеров при воздействии на них плазмы, создаваемой в неполимерных средах. Проводится анализ применения плазмы для целей органического синтеза: образования новых компаундов, синтезирования веществ в единой реакции вместо нескольких ступеней. Описываются технологии, использующие плазменные потоки и дуговые разряды, и применяемые в этих технологических пр...

Презентация -курса лекций "Плазменные покрытия" 32 слайда Кафедра ВЭПТ Лектор Соловьев А. А. Доцент кафедры ВЭПТ, Н. с. Института сильноточной электроники СО РАН

Туманов Ю. Н. Плазменные и высокочастотные процессы получения и обработки материалов в ядерном топливном цикле: настоящее и будущее. — М.: ФИЗМАТЛИТ, 2003. — 760 с. Рассмотрены применения технологической плазмы и высокочастотных электромагнитных полей в ядерном топливном цикле (ЯТЦ) и в смежных областях технологии и техники в комбинации с процессами сорбционного, экстракционного и ректификационного аффинажа. Проанализирован уровень развития плаз...

Academic Press, San Diego, 1994, 322 c. В книге представлены несколько больших обзоров: 1) Конструкция плазменных источников высокой плотности для обработки материалов 2) Плазменные источники на основе электрон-циклотронного резонанса и их использование для плазменного осаждения тонких пленок 3) Несбалансированное магнетронное распыление 4) Формирование частиц (пылевых) в технологической плазме.