Реферат
  • формат doc
  • размер 287.85 КБ
  • добавлен 15 ноября 2010 г.
Реферат - Структуры интегральных схем
Введение.
Классификация интегральных микросхем.
Структуры интегральных схем.
Конструкции активных элементов полупроводниковых микросхем.
Транзисторы типа n–p–n.
Транзисторы типа p–n–p.
Многоэмиттерные транзисторы (МЭТ).
Многоколлекторные транзисторы (МКТ).
Составные транзисторы.
Интегральные диоды и стабилитроны.
Диод Шотки и транзистор с диодом Шотки.
Конструкции активных элементов полупроводниковых микросхем.
МНОП–транзисторы.
МОАП–транзисторы.
Конструкции МДП–транзисторов с поликремниевыми затворами.
Конструкции Д–МДП–транзисторов.
Конструкции V–МДП–транзисторов.
Конструкции МДП–транзисторов на диэлектрической подложке.
Пассивные элементы полупроводниковых микросхем.
Интегральных резисторы.
Интегральные конденсаторы.
Литература.
Смотрите также

Банк М.У. Аналоговые интегральные схемы в радиоаппаратуре

  • формат djv
  • размер 4.09 МБ
  • добавлен 11 ноября 2010 г.
— М.: Радио и связь, 1981. — 136 с. Рассмотрены классификация, параметры и функциональные возможности аналоговых интегральных схем, а также применение их в устройствах радиоприемной, телевизионной, звукоусилительной, студийной, измерительной и другой аппаратуры. Особое внимание уделяется специфическим вопросам применения операционных усилителей и перемножителей. Приводится порядок расчета активных фильтров. В книге представлены более 100 принципи...

Березин А.С., Мочалкина О.Р. Технология и Конструирование Интегральных Микросхем

  • формат djvu
  • размер 9.13 МБ
  • добавлен 03 ноября 2010 г.
М., Радио и связь, 1992 г. (2-е изд. ), 320 стр. Последовательно рассмотрены вопросы технологии кремниевых полупроводниковых, пленочных и гибридных интегральных микросхем различной степени интеграции, методы проектирования их элементной базы. Описаны типовые технологические процессы производства. Изложены принципы конструирования этих микросхем. Указаны конструктивно-технологические особенности больших и сверхбольших интегральных микросхем, а т...

Бургер Р., Донован Р., ред. Основы технологии кремниевых интегральных схем. Окисление, диффузия, эпитаксия

  • формат djvu
  • размер 4.96 МБ
  • добавлен 02 октября 2009 г.
М.: Мир, 1969. - 451 с.: ил. (пер. с англ. под ред. В. Н. Мордковича и Ф. П. Пресса). Книга посвящена процессам окисления, диффузии и эпитаксии кремния. По существу изложенный материал охватывает основные процессы планарной технологии - наиболее универсальной современной технологии, позволяющей производить любые полупроводниковые приборы от простейшего диода до сложнейших интегральных субсистем. Использованы малоизвестные или не публиковавшиеся...

Гаврилов Р.А., Скворцов М.А. Технология производства полупроводниковых приборов

  • формат djvu
  • размер 3.81 МБ
  • добавлен 01 июля 2011 г.
Л.: «Энергия», 1968. - 240 с. В книге рассматриваются основные технологические процессы, используемые в производстве полупроводниковых приборов и полупроводниковых интегральных схем. Наибольшее внимание уделено процессам вплавления-рекристаллизации и диффузии, в результате проведения которых образуется электронно-дырочный переход. Планарной технологии, которая в последнее время стала широко применяться как для изготовления различных типов кремние...

Першенков В.С., Попов В.Д., Шальнов А.В. Поверхностные радиационные эффекты в элементах интегральных микросхем

  • формат djvu
  • размер 25.21 МБ
  • добавлен 30 ноября 2010 г.
М.: Энергоатомиздат, 1988, 256 с. Проанализировано влияние поверхностных радиационных эффектов в структуре диэлектрик-полупроводник на свойства элементов интегральных микросхем со структурой металл-диэлектрик-полупроводник и элементов биполярных интегральных микросхем. Рассмотрены физические модели, которые можно использовать при проектировании и создании интегральных микросхем, предназначенных для работы в условиях воздействия ионизирующего излу...

Рабаи, Чандракасан, Николич - Цифровые интегральные схемы. Методология проектирования

  • формат djvu
  • размер 17.2 МБ
  • добавлен 02 апреля 2010 г.
2-е изд, пер. с англ., М, И. Д. Вильямс, 2007, 912стр. Книга будет чрезвычайно полезна разработчикам цифровых интегральных схем и инженерам, желающим лучше разобраться в структуре СБИС. В ней предлагается множество полезных примеров, которые вы можете использовать в своей работе, и учтены основные тенденции, существующие в современном мире разработки КМОП-устройств. Книгу можно использовать как учебник по микроэлектронике при подготовке студенто...

Сейсян Р.П. Нанолитография СБИС в экстремально дальнем вакуумном ультрафиолете

  • формат pdf
  • размер 726.38 КБ
  • добавлен 06 апреля 2009 г.
Обзор. Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия, 2004 г. Приводятся обзор и обоснование основных идей фотолитографии высокого разрешения в экстремально дальнем вакуумно-ультрафиолетовом диапазоне спектра электромагнитного излучения, разрабатываемых применительно к созданию интегральных схем сверхвысокого уровня интеграции, превосходящих современные ИС по интеграции на 1-2 порядка. Рассматриваются проблемы и совреме...

Электроника и микроэлектроника

  • формат pdf
  • размер 87.71 МБ
  • добавлен 26 февраля 2011 г.
Учебное пособие для вузов. 2-е изд., исправленное. Чебоксары: Изд-во Чуваш, ун-та, 2001. 378 с. Рассматриваются структура, энергетические зоны и электропроводность полупроводников, технологические процессы выращивания монокристаллов кремния, теория p-n-перехода и методы его изготовления, основные типы полупроводниковых приборов, элементы полупроводниковых и гибридных интегральных схем, усилительные каскады, интегральные логические элементы. Огл...

Tarui Y. VLSI Technology (Fundamentals and Aplications)

  • формат djvu
  • размер 7.6 МБ
  • добавлен 07 марта 2011 г.
Springer 1986 (Tokyo 1981) pp.450. VLSI – Very Lage Scale Integration – Технология больших интегральных схем. . VLSI Technology summarizes the main results of the research performed by the Japanese VLSI Technical Research Association. The studies concentrated on silicon as the major basis of modern semiconductor devices. The results presented are on microfabrication technology, the electron-beam concept, the required software, the pattern transfe...