Литературный перевод. High intensity pulsed ion beam sources and
their industrial applications. Elseiver. Surface and Coatings
Technology 114(1999) 206–212
В настоящей работе представлено исследование по промышленному применению мощных ионных пучков (МИП) выполненное в Институте Ядерной Физики Томского Политехнического Университета (NPI TPU) и Научном Промышленном Предприятии ‘Linetron’, Н.-Новгород. Наиболее интересные результаты были получены для:
$ модификации поверхности МИП инструмента, для повышения его износостойкости;
$ осаждения тонких металлических, композитных и алмазоподобных углеродных пленок (АПП);
$ короткоимпульсной имплантации полупроводников.
Показано что ионные пучки с низкой плотностью энергии (106–109 Вт/см2)имеют перспективы в промышленном применении. В статье представлено короткое описание взаимодействия МИП-твердое тело и основные параметры МИП используемые в исследовании и их влияние на свойства обрабатываемых образцов.
В настоящей работе представлено исследование по промышленному применению мощных ионных пучков (МИП) выполненное в Институте Ядерной Физики Томского Политехнического Университета (NPI TPU) и Научном Промышленном Предприятии ‘Linetron’, Н.-Новгород. Наиболее интересные результаты были получены для:
$ модификации поверхности МИП инструмента, для повышения его износостойкости;
$ осаждения тонких металлических, композитных и алмазоподобных углеродных пленок (АПП);
$ короткоимпульсной имплантации полупроводников.
Показано что ионные пучки с низкой плотностью энергии (106–109 Вт/см2)имеют перспективы в промышленном применении. В статье представлено короткое описание взаимодействия МИП-твердое тело и основные параметры МИП используемые в исследовании и их влияние на свойства обрабатываемых образцов.