• формат pdf
  • размер 39.68 МБ
  • добавлен 01 ноября 2009 г.
Болотовский Ю.И., Таназлы Г.И. OrCAD. Моделирование
Издательство "СОЛОН-Пресс", 2005 г. , 200 с.
Книга посвящена описанию моделирования в среде OrCAD с помо-
щью специального языка EUL (Environment User's Language), который
позволяет в краткой формализованной записи отображать ре-
шения конкретных задач, которые возникают перед пользователем в про-
цессе работы со средой. В книге приводятся функциональные характери-
стики OrCAD 9.2, описание языка EUL и около 360 «рецептов», реко-
мендаций и приемов работы со средой. Часть «рецептов» сопровождается
примерами. В приложениях приводится информация, которая может
быть полезна пользователям.
Приведенная в книге информация может быть также использована при
работе с версией OrCAD 10.0.
Смотрите также

Антонетти П. МОП-СБИС. Моделирование элементов и технологических процессов

  • формат djvu
  • размер 6.34 МБ
  • добавлен 28 марта 2010 г.
МОП-СБИС. Моделирование элементов и технологических процессов / Под. ред. П. Антонетти, Д. Антониадиса, Р. Даттона, У. Оулдхема: Пер. с англ. - М.: Радио и связь, 1988. - 496 с: ил. Книга представляет собой сборник лекций, прочитанных известными специалистами из многих стран на симпозиуме по математическому моделированию технологических процессов изготовления кремниевых интегральных схем (ИС) и электрических характеристик их основных элементов -...

Антонов Ю.Н. Математическое моделирование лазерной подгонки пленочных резисторов

Дисертация
  • формат doc, pdf
  • размер 754.35 КБ
  • добавлен 16 апреля 2011 г.
- Ульяновск, - УГТУ, - 2009, – 38 стр. Автореферат диссертации на соискание ученой степени доктора технических наук. Специальность: 05.13.18 Математическое моделирование, численные методы и комплексы программ. (На правах рукописи). Аннотация. Объектом исследования диссертационной работы является физический процесс воздействия лазерного излучения на пленочные РЭ, применяемого для подгонки сопротивления в целях увеличения выхода годных гибридных...

Асессоров В.В., Быкадорова Г.В., Ткачев А.Ю. Моделирование полевых полупроводниковых приборов в САПР ISE TCAD

  • формат pdf
  • размер 647.49 КБ
  • добавлен 14 декабря 2010 г.
Учебное пособие для вузов. Воронеж, 2007, 27 с. Учебное пособие подготовлено на кафедре физики полупроводников и микроэлектроники физического факультета Воронежского государственного университета. Основы теории МДП транзисторов. Моделирование n-МОП транзистора в ISE TCAD. Для специальности: 010803 (014100) - Микроэлектроника и полупроводниковые приборы. Может быть полезно студентам и аспирантам смежных специальностей полупроводникового профиля, а...

Иванов А.Г., Белов Г.А., Сергеев А.Г. Системы управления полупроводниковыми преобразователями

  • формат pdf
  • размер 91.19 МБ
  • добавлен 26 февраля 2011 г.
Чебоксары: Изд-во Чуваш, ун-та, 2010. - 448 с. Рассматриваются принципы и системы управления и регулирования различных видов полупроводниковых преобразователей силовой электроники. Оглавление. введение. Системы управления и регулирования преобразователями силовой электроники. Особенности современной полупроводниковой элементной базы, классификация и примеры применения преобразователей силовой электроники в электроприводе. Системы управления тири...

Компьютеры на СБИС: в 2-х кн., кн. 1. (Пер. с япон.)

  • формат djv
  • размер 3.74 МБ
  • добавлен 23 июля 2010 г.
Мотоока Т., Хорикоси X., Сакаути М. и др. - M.: Мир, 1988. - 392 с. Книга является переводом восьмого тона 11-тонной серии по микроэлектронике, написанной японскими специалистами. Посвящена вопросам проектирования компьютеров па основе наиболее перспективных СБИС. Значительное внимание уделено структурным решениям построения процессоров, запоминающих устройств, систем ввода-вывода данных. Даны рекомендации по использованию для этих целей систем...

Лекции - Системное проектирование производства БИС и СИС

Статья
  • формат doc
  • размер 1.3 МБ
  • добавлен 05 мая 2009 г.
Классификация интегральных микросхем, Подготовительные операции, Базовые элементы бис и сис, Особенности производства и применяемых расходных материалов. Основы проектирования маршрутной технологии кристаллов бис и сис. Анализ и синтез технологических маршрутов. Моделирование производства кристаллов бис и сис. Методы и алгоритмы моделирования базовых технологических операций. Методы и алгоритмы численного физико-Топологического моделирования полу...

Миллер Д. Моделирование Полупроводниковых Приборов и Технологических Процессов

  • формат djvu
  • размер 5.51 МБ
  • добавлен 16 июня 2010 г.
М., Мир, 1989 г. , 280 стр. В книге рассматриваются вопросы моделирования электрофизических характеристик приборов и технологических процессов, применяемых при их изготовлении. Большое внимание уделено используемым численным методам и описанию пакетов прикладных программ. Широко представлены результаты двумерного моделирования различных полупроводниковых приборов, а также процессов диффузии и окисления. Наряду с традиционной диффузионно-дрейфовой...

Реферат - Электрический взрыв проводников

Реферат
  • формат doc
  • размер 81.5 КБ
  • добавлен 29 апреля 2011 г.
Содержание. Электрический взрыв проводников. Моделирование ЭВП. Процессы протекающие при ЭВП. Основные направления работ по ЭВП. Применение ЭВП. Заключение. Список использованной литературы.