Кузьмичев А.И. Магнетронные распылительные системы. Кн. 1. Введение в физику и технику магнетронного распыления

формат pdf
размер 11.38 МБ
добавлен 24 июня 2010 г.

Рассмотрены физические основы магнетронного распыления и разновидности магнетронных систем для нанесения тонких пленок и покрытий различного назначения, в том числе системы с усиленной ионизацией газовой среды и импульсные магнетронные распылительные системы.
Для научных и инженерно-технических работников, аспирантов и студентов высших технических заведений, специализирующихся в области электронных физико-технических устройств и ионно-плазменных технологий для электроники, оптики и машиностроения.
К.: Аверс, 2008. – 244 с.

Похожие разделы

Смотрите также

Духопельников Д.В. Магнетронные распылительные системы с электромагнитами

Дисертация

формат doc
размер 1.54 МБ
добавлен 12 июня 2011 г.

Автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук. Духопельников Дмитрий Владимирович. Специальность 01.04.14 – Теплофизика и теоретическая теплотехника. Работа выполнена в Московском государственном техническом университете им. Н. Э. Баумана (МГТУ им. Н. Э. Баумана). Москва – 2007, 18 с.

Захаров А.Н Магнетронные распылительные системы и технологии нанесения энергосберегающих покрытий на архитектурные стекла и полимерные пленки

Дисертация

формат rtf
размер 5.36 МБ
добавлен 02 июля 2011 г.

Автореферет дисс. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук. Томск- 2011, 22с. Специальность 05.27.02 - вакуумная и плазменная электроника Работа выполнена в Учреждении Российской академии наук Институте сильноточной электроники Сибирского отделения РАН Цель работы состояла в разработке методов, технологий и эффективного технологического оборудования, в том числе МРС для нанесения энергосберегающих (низкоэмиссионных и электрохромных) тонкопленочн...

Котов Д.А. Исследование вольтамперных характеристик интегрированной ионно-плазменной системы

Статья

формат pdf
размер 249 КБ
добавлен 23 мая 2011 г.

Статья. Опубликована в Доклады БГУИР, 2003, т.1, №2, с.78-82. Интегрированная система ионно-ассистированного магнетронного распыления была разработана для расширения возможностей управления параметрами осаждаемых пленок. Преимуществом предлагаемого способа нанесения является высокая скорость роста покрытия с заданной структурой и соответственно физико-химическими свойствами. Приведена схема устройства и результаты исследований вольтамперных харак...

Матвеев В.И., Карпова О.В. К теории распыления металла в виде нейтральных и заряженных кластеров

Статья

формат pdf
размер 269.14 КБ
добавлен 22 мая 2011 г.

Статья. Опубликована в Изв. ВУЗов. Физика. №6, 2002. с.3-6. Предложен метод расчета процессов упругого распыления металла в виде кластеров при ионной бомбардировке.

Плешивцев Н.В. Физические проблемы катодного распыления

формат pdf
размер 2.02 МБ
добавлен 22 мая 2011 г.

Обзор. ИАЭ им. И. В. Курчатова.1979. 90с. В обзорной лекции, прочитанной в Национальной школе Болгарии "Вакуумные, электронные я ионные технологии* для молодых научных работников и специалистов в г. Приморско 16 мая 1 9 7 6 г., показано значение процесса распыления вешеств атомными частицами в науке, технике, технологии и природе. Названы основные фундаментальные проблемы физики катодного распыления. Рассмотрены проблема первой стенки термоядерно...

Русакова А.В. Особенности распыления конструкционных материалов ионами аргона с энергией 2-7 кэВ

Дисертация

формат pdf
размер 392.98 КБ
добавлен 26 мая 2011 г.

Работа выполнена на конкурс НИОКР молодых ученых и специалистов НЯЦ РК (Прикладные исследования) Курчатов 2006, 15с. В результате исследования на базе установки RES – 100 (Balzers, Швейцария) создан стенд, предназначенный для исследования процессов распыления необлученных и облученных металлических материалов и приготовлены образцы для исследований. Применительно к исследованию топографии распыленных поверхностей разработаны методики количественн...

Шафранов В.Д. (ред.) Итоги науки и техники: Физика плазмы (том 11)

формат djvu
размер 2.97 МБ
добавлен 17 октября 2009 г.

ВИНИТИ. Москва – 1990 г. Пристеночная плазма — объект многопараметрический, изучение этих процессов невозможно без привлечения методов численного моделирования. Авторы первого обзора освещают как физику явлений, происходящих в периферийной плазме, так и методы численного их моделирования. Авторы второго обзора рассматривают некоторые новые процессы взаимодействия ионов плазмы и частиц (продуктов термоядерной реакции) со стенкой реактора, а также...

Mahan J.E., Physical vapor deposition of thin films

формат pdf
размер 5.18 МБ
добавлен 05 марта 2011 г.

Wiley, New York, 2000, 312 c. В книге сначала представлено введение о принципах и разрядных системах, используемых для плазменного осаждения пленок. Затем приведена кинетическая теория газов. Рассмотрены механихмы адсорбции и конденсации на поверхности. Дается краткий обзор о вакуумных системах, способах создания и контроля вакуума. Описаны источники, основанные на испарении, распылительные системы (RF, DC, магнетронные), а также механизмы, участ...

Ohno S., Kawaguchi Y., Miyamura A. etc. High rate deposition of tin-doped indium oxide films by reactive magnetron

формат pdf
размер 231.59 КБ
добавлен 18 ноября 2009 г.

Приведены результаты исследования применения метода оптической эмиссионной спектроскопии плазмы магнетронного разряда для оптимизации процесса магнетронного реактивного напыления оксидов индия-олова

Powell R.A., Rossnagel S.M. Thin Films

формат pdf
размер 13.6 МБ
добавлен 02 марта 2011 г.

San Diego, Academic Press, 1999, 419 p. Рассмотрены различные конструкции плазменных распылительных систем для осаждения тонких пленок, а также происходящие в них физические процессы. Кроме Введения, содержит следующие главы: 1) Физика распыления 2) Плазменные системы 3) Планарный магнетрон 4) Распылительные устройства 5) Направленное осаждение 6) Планаризованное PVD: использование повышенных температур и/или высокого давления 7) Ионизованное маг...