Плешивцев Н.В. Физические проблемы катодного распыления

формат pdf
размер 2.02 МБ
добавлен 22 мая 2011 г.

Обзор. ИАЭ им. И. В. Курчатова.1979. 90с.
В обзорной лекции, прочитанной в Национальной школе Болгарии "Вакуумные, электронные я ионные технологии* для молодых научных работников и специалистов в г. Приморско
16 мая 1 9 7 6 г., показано значение процесса распыления вешеств атомными частицами в науке, технике, технологии и природе. Названы основные фундаментальные проблемы физики
катодного распыления. Рассмотрены проблема первой стенки термоядерного реакторат токамака
и проблема экспериментального и теоретического изучения закономерностей изменения
величины коэффициента распыления от наиболее важных параметров процесса распыления. Указаны направления и вопросы первоочередных исследований распыления вешеств
нонами.
© Институт атомной энергии им. И. Э. Курчатова.

Похожие разделы

Смотрите также

Аксёнов Д.С., Аксёнов И.И., Стрельницкий В.Е. Вакуумно-дуговые источники эрозионной плазмы с магнитными фильтрами: Обзор

Статья

формат pdf
размер 4.28 МБ
добавлен 01 июня 2011 г.

Статья. Опубликована в ВАНТ, 2007, №2, с.190-202 Кратко рассмотрено современное состояние проблемы генерирования потоков эрозионной вакуумно-дуговой плазмы, очищенной от макрочастиц катодного материала. Приведены реферативные описания 27 вакуумно-дуговых источников плазмы с магнитными фильтрами, предназначенных для использования в технологических процессах осаждения плёнок микро- и нанометрового диапазонов толщин. Использованы материалы патентов...

Аксёнов И.И. и др. Влияние малых добавок кремния на служебные характеристики нитрид-титановых покрытий

Статья

формат pdf
размер 538.69 КБ
добавлен 07 декабря 2011 г.

Статья. Опубликована в журнале Вопросы атомной науки и техники, №4, 2011, с.145-149. Показано, что небольшие добавки кремния (до 3 вес. %) в покрытиях на основе нитридов титана приводят к значительным изменениям характеристик (стойкости против износа трением и против ионного распыления, эрозионной стойкости, шероховатости) получаемых конденсатов по сравнению с покрытиями на основе «чистых» нитридов титана. Так, с ростом концентрации кремния в пок...

Габович М.Д., Плешивцев Н.В., Семашко Н.Н. Пучки ионов и атомов для управляемого термоядерного синтеза и технологических целей

формат djvu
размер 6.11 МБ
добавлен 17 июля 2011 г.

Москва, Энергоатомиздат, 1986. 248 с. Рассмотрены физические принципы получения, фокусировки и транспортировки многоамперных ионных и атомных пучков. Описаны современные плазменные источники ионов водорода, дейтерия, инертных газов, тугоплавких элементов. Показаны достижения и перспективы создания пучков атомов дейтерия мощностью от единиц до сотен мегаватт. Изложены основные закономерности процесса ионного (катодного)* распыления. Обобщен накопл...

Кузьмичев А.И. Магнетронные распылительные системы. Кн. 1. Введение в физику и технику магнетронного распыления

формат pdf
размер 11.38 МБ
добавлен 24 июня 2010 г.

Рассмотрены физические основы магнетронного распыления и разновидности магнетронных систем для нанесения тонких пленок и покрытий различного назначения, в том числе системы с усиленной ионизацией газовой среды и импульсные магнетронные распылительные системы. Для научных и инженерно-технических работников, аспирантов и студентов высших технических заведений, специализирующихся в области электронных физико-технических устройств и ионно-плазменных...

Матвеев В.И., Карпова О.В. К теории распыления металла в виде нейтральных и заряженных кластеров

Статья

формат pdf
размер 269.14 КБ
добавлен 22 мая 2011 г.

Статья. Опубликована в Изв. ВУЗов. Физика. №6, 2002. с.3-6. Предложен метод расчета процессов упругого распыления металла в виде кластеров при ионной бомбардировке.

Немов А.С. Исследование распыления и ионно-электронной эмиссии углеродных материалов при высокодозном облучении

Дисертация

формат pdf
размер 673.69 КБ
добавлен 14 июля 2011 г.

Автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук Москва. 2007 г. 23с. Специальность 01.04.04 – физическая электроника Работа выполнена в Лаборатории взаимодействия ионов с веществом Отдела физики атомного ядра Научно-исследовательского института ядерной физики Московского государственного университета им. М.В. Ломоносова. и температурных зависимостей кинетической ионно-электронной эмиссии. Цели и задачи исс...

Русакова А.В. Особенности распыления конструкционных материалов ионами аргона с энергией 2-7 кэВ

Дисертация

формат pdf
размер 392.98 КБ
добавлен 26 мая 2011 г.

Работа выполнена на конкурс НИОКР молодых ученых и специалистов НЯЦ РК (Прикладные исследования) Курчатов 2006, 15с. В результате исследования на базе установки RES – 100 (Balzers, Швейцария) создан стенд, предназначенный для исследования процессов распыления необлученных и облученных металлических материалов и приготовлены образцы для исследований. Применительно к исследованию топографии распыленных поверхностей разработаны методики количественн...

Савкин К.П. Определение максимальной эффективности извлечения ионов из плазмы вакуумного дугового разряда

Дисертация

формат pdf
размер 449.83 КБ
добавлен 27 мая 2011 г.

Приведены результаты определения максимальной эффективности извлечения ионов из плазмы вакуумного дугового разряда для следующих катодных материалов: C, Mg, Al,Ti, Co, Cu, Zr, Cd, In, Sn, Sm, Ta, W, Pt, Pb, Bi. Показано, что в зависимости от катодного материала значения нормированных ионных токов Аi изменяются от 5 до 19%. На основе полученных Аi определены значения коэффициентов удельной ионной эрозии Вi для исследованных материалов без влияния...

Щанин П.М. и др. Дуговой разряд с холодным полым катодом в скрещенных электрическом и магнитном полях

Статья

формат pdf
размер 629.14 КБ
добавлен 12 июля 2011 г.

Статья. Опубликована в Журнал технической физики, 2004, том 74, вып. 5 с.24-29. Дуговой разряд в скрещенных электрическом и магнитном полях с холодным полым катодом вследствие поступления электронов из катодного пятна, инициируемого на внутренней поверхности катода разрядом по поверхности диэлектрика, горит стабильно при низких давлениях рабочего газа и зависящих от магнитного поля и рода газа напряжениях 20-50 V в диапазоне разрядных токов 20-2...

Powell R.A., Rossnagel S.M. Thin Films

формат pdf
размер 13.6 МБ
добавлен 02 марта 2011 г.

San Diego, Academic Press, 1999, 419 p. Рассмотрены различные конструкции плазменных распылительных систем для осаждения тонких пленок, а также происходящие в них физические процессы. Кроме Введения, содержит следующие главы: 1) Физика распыления 2) Плазменные системы 3) Планарный магнетрон 4) Распылительные устройства 5) Направленное осаждение 6) Планаризованное PVD: использование повышенных температур и/или высокого давления 7) Ионизованное маг...