М.: Энергия, 1977 - 375 с.
В книге рассматриваются физико-химические основы типовых процессов
производства интегральных микросхем: термовакуумного
испарения, катодного распыления, химических и электрохимических методов получения слоев, диффузии, эпитаксии, ионного внедрения и фотолитографии. Описываются технологии изготовления интегральных гибридных пленочных и интегральных полупроводниковых микросхем, а также применяемое оборудование. Книга также может быть полезна инженерам, специализирующимся в области производства радиоэлектронной аппаратуры.
испарения, катодного распыления, химических и электрохимических методов получения слоев, диффузии, эпитаксии, ионного внедрения и фотолитографии. Описываются технологии изготовления интегральных гибридных пленочных и интегральных полупроводниковых микросхем, а также применяемое оборудование. Книга также может быть полезна инженерам, специализирующимся в области производства радиоэлектронной аппаратуры.