Метод. указания к лаб. работе. — Самара: Самар. гос. аэрокосм.
ун-т., 2005. — 19 с.
Приведены теоретические сведения по технологии изготовления
элементов тонкоплёночных гибридных интегральных микросхем методом
фотолитографии. Рассмотрены вопросы повышения качества и точности
фотолитографического процесса, приведен типовой технологический
процесс.
Рекомендуются студентам специальности 20.08.00 при изучении дисциплины «Технологические процессы микроэлектроники».
Рекомендуются студентам специальности 20.08.00 при изучении дисциплины «Технологические процессы микроэлектроники».