Учебно-методическое пособие. — Нижний Новгород: ННГУ, 2006. — 99 с.
Материал включает в себя: описание основных подходов к
проектированию многослойных оптических покрытий, описание
конструкций основных оптических покрытий, особенностей их
формирования по тонкопленочной технологии, способов
фотометрического контроля оптической толщины пленки в процессе
напыления, описание технологических особенностей электроннолучевого
испарения в вакууме как метода формирования просветляющих и
зеркальных покрытий, узкополосных и отрезающих светофильтров.
Основы проектирования оптических покрытий
Анализ и синтез интерференционных покрытий
Многолучевая интерференция
Матричный метод
Принципы проектирования просветляющих покрытий
Расчет и конструкции интерференционных зеркал
Принципы проектирования интерференционных светофильтров
Интерференционные поляризаторы и ослабители
Тонкопленочные материалы для многослойных оптических покрытий
Особенности технологии оптических покрытий
Основные технологические принципы создания оптических покрытий
Особенности получения интерференционных покрытий методом электроннолучевого испарения в вакууме
Оптические покрытия, сформированные методом электроннолучевого испарения
Свойства тонких пленок
Многослойные оптические покрытия
Анализ и синтез интерференционных покрытий
Многолучевая интерференция
Матричный метод
Принципы проектирования просветляющих покрытий
Расчет и конструкции интерференционных зеркал
Принципы проектирования интерференционных светофильтров
Интерференционные поляризаторы и ослабители
Тонкопленочные материалы для многослойных оптических покрытий
Особенности технологии оптических покрытий
Основные технологические принципы создания оптических покрытий
Особенности получения интерференционных покрытий методом электроннолучевого испарения в вакууме
Оптические покрытия, сформированные методом электроннолучевого испарения
Свойства тонких пленок
Многослойные оптические покрытия