НТУ "ХПИ", Харьков, 2014. стр.19
Электрофизическая обработка. Принципиальная схема электрофизической
установки. Межэлектродный зазор. Влияние межэлектродного зазора на
процесс обработки. Отличие плазменной и лазерной обработки
Файл пока недоступен
Сейчас скачать этот файл нельзя. Попробуйте позже или воспользуйтесь похожими материалами ниже.