Монография / Под ред. А.П. Коржавого. — М.: Издательство МГТУ им.
Н.Э. Баумана, 2009. — 156 с. — ISBN 978-5-7038-3357-5.
В монографии освещены важнейшие с точки зрения современного
материаловедения вопросы формирования эмиссионных токов в
наноструктурах «металл–оксид металла», активно используемых в
качестве основы холодных катодов различных электронных устройств.
Проведен анализ использования тонкопленочных структур как основы
холодных катодов кольцевых лазеров гироскопов, для накачки которых
применяется тлеющий газовый разряд. С использованием компьютерного
моделирования проведены комплексные исследования механизмов
формирования инжекционно-эмиссионных токов в наноструктурах
Al–Al2O3 и Be–BeO, процессов модификации их поверхности и объема
под действием ионно-электронной бомбардировки. Рассмотрены вопросы
получения и исследования физико-технических параметров холодных
катодов на основе наноструктур Al–Al2O3 и Be–BeO.
Книга предназначена для научных и инженерно-технических работников,
специализирующихся в области электронного материаловедения,
радиоэлектроники, физики твердого тела. Она также может служить
учебником, полезным преподавателям, аспирантам, магистрантам и
студентам-старшекурсникам соответствующих физико-технических и
естественнонаучных специальностей
Предисловие редактора
Введение Тонкопленочные структуры как основа холодных катодов газовых лазеров
Холодные катоды в газовых лазерах
Конструкционные особенности холодных катодов моноблочных he–ne лазерных датчиков
Особенности структуры и физических свойств поверхности холодного катода
Проводимость оксидной пленки холодных катодов в газовом разряде
Дефектообразование в оксидных пленках на поверхности холодных катодов
Физические причины разрушения холодных катодов в аномальном тлеющем разряде
Катодное распыление
Роль объемных дефектов в процессах разрушения оксидных пленок в тлеющем разряде
Анализ методов получения тонкопленочных структур для холодных катодов и методов их диагностики
Физико-технологические основы получения пленочных холодных катодов моноблочных He–Ne лазерных датчиков
Перспективы применения пленок нитридов металлов для создания холодных катодов
Исследование дефектности металлических пленок методом электронно-флуктуационной диагностики
Физические свойства тонкопленочных структур на основе оксидов алюминия и бериллия
Свойства материалов, использованных для создания эффективных эмиттеров — тонкопленочных холодных катодов Моделирование процессов инжекции и эмиссии носителей заряда в наноструктурах «металл–оксид металла»
Построение энергетических диаграмм наноструктур AL–AL2O3 И BE–BEO
Формирование инжекционных токов, ограниченных пространственным зарядом, в диэлектрическом слое наноструктур AL–AL2O3 И BE–BEO
Формирование инжекционных токов по механизму пула–френкеля в диэлектрическом слое наноструктур AL–AL2O3 И BE–BEO
Формирование туннельных токов в наноструктурах AL–AL2O3 И BE–BEO Моделирование физических процессов в наноструктурах «металл–оксид металла», инициируемых ионно-электронной бомбардировкой
Распыление поверхности оксида металла в наноструктурах AL–AL2O3 И BE–BEO под действием ионно-электронной бомбардировки
Модификация поверхности и объема оксида металла в наноструктурах AL–AL2O3 И BE–BEO под действием ионно-электронной бомбардировки
Формирование вторичных ионно-электронной и электронной эмиссий с поверхности оксида металла в структурах AL–AL2O3 И BE–BEO Получение и исследование тонкопленочных холодных катодов на основе наноструктур AL–AL2O3 И BE–BEO
Контроль дефектности металлических пленок на основе измерения электронных 1/f-шумов
Определение толщины оксидных пленок макетирование тонкопленочных холодных катодов на основе структур AL–AL2O3 И BE–BEO Заключение
Литература
Введение Тонкопленочные структуры как основа холодных катодов газовых лазеров
Холодные катоды в газовых лазерах
Конструкционные особенности холодных катодов моноблочных he–ne лазерных датчиков
Особенности структуры и физических свойств поверхности холодного катода
Проводимость оксидной пленки холодных катодов в газовом разряде
Дефектообразование в оксидных пленках на поверхности холодных катодов
Физические причины разрушения холодных катодов в аномальном тлеющем разряде
Катодное распыление
Роль объемных дефектов в процессах разрушения оксидных пленок в тлеющем разряде
Анализ методов получения тонкопленочных структур для холодных катодов и методов их диагностики
Физико-технологические основы получения пленочных холодных катодов моноблочных He–Ne лазерных датчиков
Перспективы применения пленок нитридов металлов для создания холодных катодов
Исследование дефектности металлических пленок методом электронно-флуктуационной диагностики
Физические свойства тонкопленочных структур на основе оксидов алюминия и бериллия
Свойства материалов, использованных для создания эффективных эмиттеров — тонкопленочных холодных катодов Моделирование процессов инжекции и эмиссии носителей заряда в наноструктурах «металл–оксид металла»
Построение энергетических диаграмм наноструктур AL–AL2O3 И BE–BEO
Формирование инжекционных токов, ограниченных пространственным зарядом, в диэлектрическом слое наноструктур AL–AL2O3 И BE–BEO
Формирование инжекционных токов по механизму пула–френкеля в диэлектрическом слое наноструктур AL–AL2O3 И BE–BEO
Формирование туннельных токов в наноструктурах AL–AL2O3 И BE–BEO Моделирование физических процессов в наноструктурах «металл–оксид металла», инициируемых ионно-электронной бомбардировкой
Распыление поверхности оксида металла в наноструктурах AL–AL2O3 И BE–BEO под действием ионно-электронной бомбардировки
Модификация поверхности и объема оксида металла в наноструктурах AL–AL2O3 И BE–BEO под действием ионно-электронной бомбардировки
Формирование вторичных ионно-электронной и электронной эмиссий с поверхности оксида металла в структурах AL–AL2O3 И BE–BEO Получение и исследование тонкопленочных холодных катодов на основе наноструктур AL–AL2O3 И BE–BEO
Контроль дефектности металлических пленок на основе измерения электронных 1/f-шумов
Определение толщины оксидных пленок макетирование тонкопленочных холодных катодов на основе структур AL–AL2O3 И BE–BEO Заключение
Литература