Уютов А.А., Родионов Л.Ф., Шадыев Е.Р. – МПК: B 24B 31/10
(2006.01), B 24B 31/112 (2006.01). – № 2006145228/02; заявл.
19.12.2006; опубл. 27.10.2008, Бюл. №
30. – 6 с. Формула изобретения:
Установка для магнитно-абразивной очистки и/или отделочной обработки поверхностей изделий сложной формы, характеризующаяся тем, что она содержит камеру с мелкозернистым магнитно-абразивным материалом и заслонками для его загрузки-выгрузки, коллектор для поддержания магнитно-абразивного материала во взвешенном состоянии с образованием кипящего слоя, колпачки фонтанирующего ожижения кипящего слоя, установленные в коллекторе для направления магнитно-абразивного материала в зону очистки и/или обработки с воздействием на изделие, закрепленное в камере с возможностью медленного вращательного движения, и электромагниты переменного тока, размещенные в стенках камеры с возможностью последовательного попарного подключения диаметрально противоположных электромагнитов с обеспечением направленного импульсного воздействия магнитно-абразивного материала на очищаемую и/или обрабатываемую поверхность.
30. – 6 с. Формула изобретения:
Установка для магнитно-абразивной очистки и/или отделочной обработки поверхностей изделий сложной формы, характеризующаяся тем, что она содержит камеру с мелкозернистым магнитно-абразивным материалом и заслонками для его загрузки-выгрузки, коллектор для поддержания магнитно-абразивного материала во взвешенном состоянии с образованием кипящего слоя, колпачки фонтанирующего ожижения кипящего слоя, установленные в коллекторе для направления магнитно-абразивного материала в зону очистки и/или обработки с воздействием на изделие, закрепленное в камере с возможностью медленного вращательного движения, и электромагниты переменного тока, размещенные в стенках камеры с возможностью последовательного попарного подключения диаметрально противоположных электромагнитов с обеспечением направленного импульсного воздействия магнитно-абразивного материала на очищаемую и/или обрабатываемую поверхность.