М.: 3аочный институт ЦП ВНТО приборостроителей, 1989, 56 с.
В брошюре рассмотрены основные процессы в камерах электрофизических
установок и комплексов, определяющие требования к их вакуумным
параметрам. Описаны закономерности взаимодействия нейтрального газа
с ускоренными пучками заряженных частиц и высокотемпературной
водородной плазмой; процессы десорбции газовых молекул со стенок
под
воздействием корпускулярного и электромагнитного излучения; механизмы формирования и методы управления примесями в термоядерной плазме; электрические и электродинамические явления в вакуумных камерах. Обоснованы типичные вакуумные параметры электронных и ионных ускорителей, ускорительно-накопительных комплексов, столкновителей, термоядерных установок и реакторов.
Табл. 9, ил. 13, библ. 6 назв.
воздействием корпускулярного и электромагнитного излучения; механизмы формирования и методы управления примесями в термоядерной плазме; электрические и электродинамические явления в вакуумных камерах. Обоснованы типичные вакуумные параметры электронных и ионных ускорителей, ускорительно-накопительных комплексов, столкновителей, термоядерных установок и реакторов.
Табл. 9, ил. 13, библ. 6 назв.