Дресвин С.В., Донской А.В., Гольдфарб В.М., Клубникин В.С. Физика и техника низкотемпературной плазмы
Подождите немного. Документ загружается.
применять
для
менее
ярких
источников,
плазма
которых
при
малой
оптической
толщине
имеет
температуру
порядка
100000
К.
Подробные
сведения
об
излучении
вольфрама
и
анода
дуги
приведены
соответственно
в
работах
[137-140)
и
[141-144
].
Остановимся
на
некоторых
специальных
ПРlIемах
опреде
ления абсолютной
интенсивности.
В
некоторых
случаях
образец
Рис.
3.21.
Спектр
IIзлучения
сверхзвvковой
аргоновой
струи,
снятый
на
•
о
дифракционном
спектрографе
во
11
порядке
(Дllсперсня
3
А/мм,
три
раз
личных
экспозиции).
Продольные
линии
-
непрерывное
IIзлучение
ци
линдрического
вольфрамового
зонда,
имеющего
температуру
27000
1<.
удобно
совмещать
с
плазменным
ИСТОЧНIIКОМ.
Так,
в
дуговой
или
ВЧ-разряд
или
в
плазменную
струю
вводится
твердый
излучатель
с
известным
коэффициентом
черноты
поверхности,
нагреваемый
исследуемой
плазмой.
Фотографируя
спектр
ис
точника,
получают
наложенный
на
него
спектр
эталонного
излучателя
(рис.
3.21).
Для
разряда,
горящего
в
инертной
атмосфере,
удобно применять
сферический
или
цилиндрический
датчик,
температура
которого
измеряется
оптическим
пиромет
ром
или
определяется
непосредственно
по
спектру
цветовым
методом
.
В
этом
способе
автоматичеСКII
решается
проблема
выравнивания
оптических
путей:
за
счет
исключения
окна
лампы
расширяется
спектральная
область.
В
качестве
эталона
можно
использовать
хорошо
изученные
плазменные
источники,
например
стабилизированный
дуговой
разряд
в
аргоне
при
атмосферном
или
повышенном
давлении.
Температура
плазмы
такой
равновесной
дуги
измеряется
лю
бым
независимым
методом,
например
по
уширению
линий.
Н
качестве
образца
излучения
могут
служить
линии
или
участки
континуума.
Благодаря
высокой
температуре,
распределение
интенсивности
в
спектре
образца
ближе
к
таковому
для
иссле-
4*
99