Радиоэлектроника
  • формат pdf
  • размер 592,49 КБ
  • добавлен 27 ноября 2012 г.
Григорьев Ф.И. Осаждение тонких пленок из низкотемпературной плазмы и ионных пучков в технологии микроэлектроники
Учебное пособие. Моск. гос. ин-т электроники и математики. М., 2006, 36с.
В пособии изложены физические основы процессов ионно-плазменного нанесения тонких пленок. Рассмотрены разновидности процесса ионно-плазменного и плазмохимического нанесения пленок. Кратко рассмотрено ионно-лучевое осаждение металлических и алмазоподобных углеродных пленок.
Пособие предназначено для студентов специальности 200100 по дисциплине Физические основы ионно-плазменной технологии.