• формат djvu
  • размер 3,62 МБ
  • добавлен 25 января 2015 г.
Миз Дж. (ред.) Нейтронное трансмутационное легирование полупроводников
М.: Мир, 1982. — 260 с.
Книга содержит ряд докладов, прочитанных специалистами США и других стран на Второй международной конференции по НТЛ полупроводников и посвященных новой перспективной технологии введения легирующих примесей в полупроводники - трансмутационному легированию при облучении в реакторе. Рассмотрены физические основы трансмутационного легирования (ТЛ), вопросы радиационной безопасности, техника облучения, образование дефектов и их отжиг, электрофизические и структурные свойства трансмутационно легированного кремния и улучшение характеристик приборов. Для специалистов в области радиационной физики твердого тела, полупроводниковой технологии, реакторной физики и техники.
Процесс нейтронного трансмутационного легирования (НТЛ) - новая реакторная технология.
Обнаружение и идентификация примесей, активируемых при нейтронном облучении кремния, выращенного методом Чохральского.
НТЛ-метод с точки зрения возникновения радиоактивности.
Определение потока и спектра нейтронов для расчета энергетических спектров ядер отдачи и повреждений в материалах, облученных быстрыми нейтронами на низкотемпературной установке реактора Ср-5.
Нейтронное легирование на исследовательских реакторах в Харуэлле.
Расширенная программа нейтронного трансмутационного легирования кремния на испытательном реакторе фирмы "Дженерал Электрик".
Автоматическая облучательная установка для нейтронного легирования кремниевых слитков больших размеров.
Методы получения НТЛ-кремния при облучении с высокой точностью на исследовательском реакторе Университета шт. Миссури (ИРУМ).
Эффекты атомных смещений при НТЛ.
Исследование электрических характеристик ТЛ-кремния.
Влияние изохронного отжига на удельное сопротивление трансмутационно легированных образцов кремния, выращенного методом зонной плавки или методом Чохральского.
Уровни дефектов, определяющие свойства ТЛ-кремния после отжига.
Дефекты с мелкими уровнями в кремнии p-типа, облученном нейтронами.
Применение ТЛ-кремния для изготовления приборов большой мощности.
Значение нейтронного трансмутационного легирования кремния в разработке материала для высокочувствительных ИК-приемников.
Флуктуации удельного сопротивления в сильно компенсированном ТЛ-кремнии.