• формат djvu
  • размер 11.19 МБ
  • добавлен 18 октября 2009 г.
Туманов Ю.Н. Плазменные и высокочастотные процессы получения и обработки материалов в ядерном топливном цикле: настоящее и будущее
Туманов Ю. Н. Плазменные и высокочастотные процессы получения и обработки материалов в ядерном топливном цикле: настоящее и будущее. — М.: ФИЗМАТЛИТ,
2003. — 760 с.

Рассмотрены применения технологической плазмы и высокочастотных электромагнитных полей в ядерном топливном цикле (ЯТЦ) и в смежных областях технологии и техники в комбинации с процессами сорбционного, экстракционного и ректификационного аффинажа. Проанализирован уровень развития плазменной техники для новых приложений на различных стадиях ЯТЦ: источников электропитания, плазмотронов, вспомогательной техники. Предложены новые комбинированные генераторы потоков технологической плазмы, в частности уран-фторной плазмы. Большое внимание уделено анализу технико-экономической эффективности плазменной технологии, проанализировано влияние электротехнологии на биосферу, рассмотрены гипотетические схемы ядерного топливного цикла, модернизированного на основе плазменной, высокочастотной и лазерной техники, с более высоким уровнем социальной адаптации.
Для научных работников и инженеров, разрабатывающих новые химико-металлургические процессы для ЯТЦ и смежных областей, а также для профессорско-преподавательского состава, аспирантов и студентов старших курсов, специализирующихся в области развития ЯТЦ и плазменных химико-металлургических процессов.
Похожие разделы
Смотрите также

Аксенов И.И., Падалка В.Г., Хороших В.М. Формирование потоков Ме плазмы (обзор)

  • формат pdf
  • размер 3.15 МБ
  • добавлен 12 мая 2010 г.
М.: ЦНИИатоминформ, 1984г. - 84с. Анализируется способы и устройства для генерации металлической плазмы, основанные на использовании вакуумно-дугового разряда с расходуемым катодом. Рассматриваются работы, связанные, главным образом, с проблемами ионно-плазменной технологии обработки материалов и техники получения вакуума. Особое внимание уделено вопросам управления плазмой скрещенными E- и H- полями: фокусировке, отклонению, транспортировке и се...

Габович М.Д. Физика и техника плазменных источников ионов

  • формат pdf
  • размер 5.37 МБ
  • добавлен 06 марта 2011 г.
Москва, Атомиздат, 1972, 304 с. В книге систематизированы сведения об устройстве, физических основах действия, свойствах и параметрах плазменных источников ионов - приборов, которые нашли широкое применение в различных областях науки и техники. Рассматриваются плазменные источники атомарных и молекулярных ионов водорода, многозарядных ионов, отрицательных ионов, ионов тугоплавких элементов, а также способы формирования ионных пучков, нейтрализаци...

Ефремов А.М., Светцов В.И., Рыбкин В.В. Вакуумно-плазменные процессы и технологии

  • формат pdf
  • размер 4.85 МБ
  • добавлен 27 февраля 2010 г.
Учебное пособие. ГОУВПО Иван. гос. хим. -технол. ун-т. Иваново. 2006. 260 с. Рассмотрены процессы образования активных частиц в плазме и их взаимодействия с поверхностью твердого тела, а так же технологические применения неравновесной плазмы для травления и модификации полимерных и неорганических материалов. Пособие предназначено для студентов специальности «Химическая технология монокристаллов, материалов и изделий электронной техники» и может...

Ивановский Г.Ф. Ионно - Плазменная обработка материалов

  • формат djvu
  • размер 82.41 МБ
  • добавлен 12 июля 2010 г.
М.: Радио и связь, 1986, 232 стр. Рассматриваются физико-химические основы и принципы применения ионно-плазменной обработки материалов в вакууме с целью очистки их поверхностей, травления на поверхности структур субмикронного размера, а также получения пленочных покрытий различных материалов. Анализируются основные закономерности и теоретические представления о процессах ионно-плазменной обработки, рассматриваются характеристики оборудования дл...

Презентация - Плазменные покрытия

Презентация
  • формат ppt
  • размер 2.02 МБ
  • добавлен 03 апреля 2011 г.
Презентация -курса лекций "Плазменные покрытия" 32 слайда Кафедра ВЭПТ Лектор Соловьев А. А. Доцент кафедры ВЭПТ, Н. с. Института сильноточной электроники СО РАН

Презентация Радиационные и плазменные технологии обработки материалов

Презентация
  • формат pdf
  • размер 3.62 МБ
  • добавлен 02 июня 2011 г.
Лектор - Кривобоков В. П. Томский политехнический университет Кафедра водородной энергетики и плазменных технологий 2010г.75 цв. слайдов с фотографиями установок (ЯШМА, БУЛАТ и др. ), ЭРД, трековых мембран и пр.

Реферат - Высокочастоные плазмотроны

Реферат
  • формат doc
  • размер 9.16 МБ
  • добавлен 27 марта 2010 г.
Реферат на тему "Высокочастотные плазмотроны", 61 стр. , 4 приложения, 7 источников Содержание: 1 Высокочастотные индукционные плазмотроны 1.1 Принцип работы ВЧИ-плазмотрона 1.2 Конструкции ВЧИ-плазмотронов 2 Высокочастотные емкостные плазмотроны 2.1 Принцип работы ВЧЕ-плазмотрона 2.2 Конструкции ВЧЕ-плазмотронов 3 Источники питания высокочастотных плазмотронов 4 Применение высокочастотных плазмотронов 4.1 Общие принципы применения ВЧ...

Хороших В.М., Белоус В.А. Пленки диоксида титана для фотокатализа и медицины

Статья
  • формат pdf
  • размер 402.3 КБ
  • добавлен 08 ноября 2011 г.
Статья. Опубликована в ФІП ФИП PSE, 2009, т. 7, № 3, с.223 - 238 В обзоре рассмотрены основные методы получения диоксида титана в виде тонких пленок. Результаты анализа литературных данных позволяет сделать заключение о том, что наиболее предпочтительным методом получения фотокаталитических пленок диоксида титана является процесс осаждения потоков плазмы вакуумной дуги в присутствии кислорода. Наилучшими свойствами обладают пленки, получаемые с п...

Francombe M.H., Vossen J.L. Physics of Thin Films. Plasma Sources for thin film deposition and etching

  • формат pdf
  • размер 36.71 МБ
  • добавлен 05 марта 2011 г.
Academic Press, San Diego, 1994, 322 c. В книге представлены несколько больших обзоров: 1) Конструкция плазменных источников высокой плотности для обработки материалов 2) Плазменные источники на основе электрон-циклотронного резонанса и их использование для плазменного осаждения тонких пленок 3) Несбалансированное магнетронное распыление 4) Формирование частиц (пылевых) в технологической плазме.

Powell R.A., Rossnagel S.M. Thin Films

  • формат pdf
  • размер 13.6 МБ
  • добавлен 02 марта 2011 г.
San Diego, Academic Press, 1999, 419 p. Рассмотрены различные конструкции плазменных распылительных систем для осаждения тонких пленок, а также происходящие в них физические процессы. Кроме Введения, содержит следующие главы: 1) Физика распыления 2) Плазменные системы 3) Планарный магнетрон 4) Распылительные устройства 5) Направленное осаждение 6) Планаризованное PVD: использование повышенных температур и/или высокого давления 7) Ионизованное маг...