Фелдман Л., Майер Д. Основы анализа поверхности и тонких пленок

Пер. с англ. В.А. Аркадьева, Л.И. Огнева. — Под ред. д.ф.-м.н. В.В. Белошицкого — М.: Мир, 1989. — 344 с. Монография, написанная известными американскими специалистами в области атомных столкновений в твердых телах, посвящена физическим основам и методам использования пучков ионов, электронов и рентгеновского излучения для анализа структуры и состава тонких пленок вещества. Эти методы играют важную роль в развитии современной атомной технологии, особенно в области микроэлектроники. Все вопросы изложены на высоком научном уровне.
Для специалистов, интересующихся проблемами анализа поверхности и тонких пленок, аспирантов и студентов. Основные понятия, единицы измерения, атом Бора.
Атомные столкновения и спектрометрия обратного рассеяния.
Потери энергии легких ионов и получение распределений по глубине с помощью обратного рассеяния.
Профили распыления и масс-спектрометрия вторичных ионов.
Каналирование.
Электрон-электронные взаимодействия и чувствительность к глубине в электронной спектроскопии.
Структура поверхности.
Поглощение фотонов в твердых телах и EXAFS.
Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия (XPS).
Излучательные переходы и электронный микроанализ.
Неиэлучательные переходы и оже-электронная спектроскопия.
Активационный и мгновеннорадиационный ядерные методы анализа.