Хороших В.М. Стационарная вакуумная дуга в технологических системах для обработки поверхности

М.: ЦНИИатоминформ, 1984г. - 84с. Анализируется способы и устройства для генерации металлической плазмы, основанные на использовании вакуумно-дугового разряда с расходуемым катодом. Рассматриваются работы, связанные, главным образом, с проблемами ионно-плазменной технологии обработки материалов и техники получения вакуума. Особое внимание уделено вопросам управления плазмой скрещенными E- и H- полями: фокусировке, отклонению, транспортировке и се...

Беграмбеков Л. Б. Модификация поверхности твердых тел при ионном и плазменном воздействии. Учебное пособие. М: МИФИ, 2001. - 34 с. В учебном пособии описываются условия и излагаются основные закономерности развития наиболее значительных изменений рельефа поверхности твердых тел при ионном и плазменном облучении. Рассмотрены различные виды рельефа, которые формируются при подобном воздействии. Приводятся модели явлений. При составлении посо...

Автореферет дисс. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук. Томск- 2011, 22с. Специальность 05.27.02 - вакуумная и плазменная электроника Работа выполнена в Учреждении Российской академии наук Институте сильноточной электроники Сибирского отделения РАН Цель работы состояла в разработке методов, технологий и эффективного технологического оборудования, в том числе МРС для нанесения энергосберегающих (низкоэмиссионных и электрохромных) тонкопленочн...

М.: Радио и связь, 1986, 232 стр. Рассматриваются физико-химические основы и принципы применения ионно-плазменной обработки материалов в вакууме с целью очистки их поверхностей, травления на поверхности структур субмикронного размера, а также получения пленочных покрытий различных материалов. Анализируются основные закономерности и теоретические представления о процессах ионно-плазменной обработки, рассматриваются характеристики оборудования дл...

Статья. Опубликована в Вопросы атомной науки и техники,№2,2001,2с. Исследован процесс обработки поверхности металлов в несамостоятельном высокочастотном индукционном разряде аргона.Определена зависимость скорости травления Mo, W. Та. стали Х18Н10Т от давления в камере, от вкладываемой в разряд мощности, от потенциала на подложке.

Статья в АББ Ревю 1/2004, с.22-27. Подзаголовок - Моделирование сильноточных вакуумных дуговых разрядов Вакуумная технология на сегодняшний день доминирует в области прерывателей среднего напряжения (12-52 кВ) и на то есть причины. Такие достоинства, как высокая надежность, большой ресурс и экологичность являются следствием непрерывного развития, сопровождаемого исследованиями в области прерывания больших токов, которые привели к глубокому понима...

Учебное пособие. - Томск, ТПУ, 2011. - 137 с. В пособии изложен обзор основных видов тонкопленочных покрытий, наносимых с использованием низкотемпературной плазмы и вакууме. Рассмотрена роль тонкопленочных покрытий в технологических процессах и важность задачи разработки новых покрытий с улучшенными характеристиками. Сформулировано значение и описаны способы предварительной очистки поверхности перед нанесением на нее тонких пленок. Рассмотрены...

Статья. Опубликована в сборнике научных трудов Вопросы проектирования и производства конструкций летательных аппаратов. Х., ХАИ, 2010, с. 304 - 310. Во многих технологических плазменных процессах и операциях, где зачастую основная роль принадлежит тлеющему разряду, возникает проблема несанкционированного его перехода в дуговой разряд. Такое самопроизвольное дугообразование наблюдается при азотировании в стационарном тлеющем разряде, при ионной оч...

Давид Альбертович Франк-Каменецкий. Лекции по физике плазмы. 2-изд. М.: Атомиздат, 1968 год, 288 стр. Излагаются основные понятия физики плазмы и простейшие инженерные расчеты. Подробно рассматриваются термодинамические свойства плазмы; равновесная и стационарная ионизация; адиабатическое и дрейфовое движение заряженных частиц; элементарная гидродинамическая теория распространения волн в холодной и горячей плазме; простейшие вопросы физической к...

Wiley, New York, 2000, 312 c. В книге сначала представлено введение о принципах и разрядных системах, используемых для плазменного осаждения пленок. Затем приведена кинетическая теория газов. Рассмотрены механихмы адсорбции и конденсации на поверхности. Дается краткий обзор о вакуумных системах, способах создания и контроля вакуума. Описаны источники, основанные на испарении, распылительные системы (RF, DC, магнетронные), а также механизмы, участ...