Mahan J.E., Physical vapor deposition of thin films

формат pdf
размер 5.18 МБ
добавлен 05 марта 2011 г.

Wiley, New York, 2000, 312 c.
В книге сначала представлено введение о принципах и разрядных системах, используемых для плазменного осаждения пленок. Затем приведена кинетическая теория газов. Рассмотрены механихмы адсорбции и конденсации на поверхности. Дается краткий обзор о вакуумных системах, способах создания и контроля вакуума. Описаны источники, основанные на испарении, распылительные системы (RF, DC, магнетронные), а также механизмы, участвующие в процессе распыления. Завершает книгу глава об осаждении пленок.

Похожие разделы

Смотрите также

Bishop Ch. Vacuum Deposition onto Webs, Films and Foils

формат pdf
размер 10.76 МБ
добавлен 06 ноября 2011 г.

Second Edition, William Andrew, 2011, 530 pages Roll-to-roll vacuum deposition is the technology that applies an even coating to a flexible material that can be held on a roll and provides a much faster and cheaper method of bulk coating than deposition onto single pieces or non-flexible surfaces, such as glass. This technology has been used in industrial-scale applications for some time, including a wide range of metalized packaging (e.g. snac...

D'Agostino R., Favia P., Kawai Y., Ikegami H., Sato N., Arefi-Khonsari F. Advanced Plasma Technology

формат pdf
размер 7.26 МБ
добавлен 18 сентября 2011 г.

Wiley-VCH, Weinheim, 2008, 457 pages A panel of internationally renowned scientists discuss the latest results in plasma technology. This volume has been compiled with both a didactic approach and an overview of the newest achievements for industrial applications. It is divided into two main sections. One is focused on fundamental technology, including plasma production and control, high-pressure discharges, modeling and simulation, diagnostics...

Francombe M.H., Vossen J.L. Physics of Thin Films. Plasma Sources for thin film deposition and etching

формат pdf
размер 36.71 МБ
добавлен 05 марта 2011 г.

Academic Press, San Diego, 1994, 322 c. В книге представлены несколько больших обзоров: 1) Конструкция плазменных источников высокой плотности для обработки материалов 2) Плазменные источники на основе электрон-циклотронного резонанса и их использование для плазменного осаждения тонких пленок 3) Несбалансированное магнетронное распыление 4) Формирование частиц (пылевых) в технологической плазме.

Knystautas E. Engineering Thin Films and Nanostructures with Ion Beams

формат pdf
размер 29.82 МБ
добавлен 24 ноября 2011 г.

CRC Press, Taylor & Francis Group, 2005, Pages: 592 While ion-beam techniques have been used to create thin films in the semiconductor industry for several decades, these methods have been too costly for other surface treatment applications. However, as manufacturing devices become increasingly smaller, the use of a directed-energy ion beam is finding novel industrial applications that require the custom tailoring of new materials and devi...

Martin P.M. Handbook of Deposition Technologies for Films and Coatings, Third Edition: Science, Applications and Technology

формат pdf
размер 31.87 МБ
добавлен 21 ноября 2011 г.

William Andrew, 2010, 912 pages Recent years have seen a rapid expansion in the applications of advanced thin film coatings in areas including photovoltaics, energy conversion, energy efficiency, biomedical engineering, telecommunications, pharmaceuticals and flat panel displays. In a tough economic climate, surface engineering remains a growth industry, because surface engineered products improve performance, increase energy efficiency, add fu...

Mattox D.M. The Foundations of Vacuum Coating Technology

формат pdf
размер 1.57 МБ
добавлен 18 января 2012 г.

Noyes Publications, William Andrew Publishing, 2003, ISBN-10: 0815514956, 60 pages Text provides a review of the discoveries, inventions, and people behind vacuum coating technology, past and present. Includes more than 370 references, acronyms used in vacuum coating, and a glossary of terms. For materials scientists, and engineers working with vacuum coating in the invention of new technologies or applications. Early Vacuum Science and Techn...

Ohno S., Kawaguchi Y., Miyamura A. etc. High rate deposition of tin-doped indium oxide films by reactive magnetron

формат pdf
размер 231.59 КБ
добавлен 18 ноября 2009 г.

Приведены результаты исследования применения метода оптической эмиссионной спектроскопии плазмы магнетронного разряда для оптимизации процесса магнетронного реактивного напыления оксидов индия-олова

Pauleau Y. (Ed.) Materials Surface Processing by Directed Energy Techniques

формат pdf
размер 9.32 МБ
добавлен 31 декабря 2011 г.

Elsevier Science, 2006, Pages: 722 The current status of the science and technology related to coatings, thin films and surface modifications produced by directed energy techniques is assessed in this book. The subject matter is divided into 20 chapters - each presented at a tutorial level - rich with fundamental science and experimental results. New trends and new results are also evoked to give an overview of future developments and applicat...

Rossnagel S.M., Cuomo J.J., Westwood W.D. Handbook of plasma processing technology. Fundamentals, etching, deposition, and surface interaction

формат djvu
размер 4.98 МБ
добавлен 02 марта 2011 г.

Noyes publications, Park Ridge, New Jersey, U.S.A. 1990, 536 стр. Рассматриваются физические основы ряда газовых разрядов, используемых в плазменных технологиях для травления и осаждения различных покрытий. Книга имеет следующие разделы. Techniques for ic processing. Introduction to plasma concepts and discharge configurations. Fundamentals of sputtering and reflection. Bombardment-Induced compositional change with alloys, Oxides, Oxysalts, And h...

Roth J.R. Industrial Plasma Engineering. Volume 2: Applications to Nonthermal Plasma Processing

формат pdf
размер 4.73 МБ
добавлен 13 марта 2011 г.

IOP, Institute of Physics Publishing, Bristol and Philadelphia, 2001, 645 c. Второй том книги о плазменных технологиях. Содержит разделы: Surface Interactions in Plasma Processing Atmospheric Pressure Plasma Sources Vacuum Plasma Sources Plasma Reactors for Plasma Processing Specialized Techniques and Devices for Plasma Processing Parametric Plasma Effects On Plasma Processing Diagnostics for Plasma Processing Plasma Treatment of Surfaces Surface...