• формат pdf
  • размер 29.82 МБ
  • добавлен 24 ноября 2011 г.
Knystautas E. Engineering Thin Films and Nanostructures with Ion Beams
CRC Press, Taylor & Francis Group, 2005, Pages: 592

While ion-beam techniques have been used to create thin films in the semiconductor industry for several decades, these methods have been too costly for other surface treatment applications. However, as manufacturing devices become increasingly smaller, the use of a directed-energy ion beam is finding novel industrial applications that require the custom tailoring of new materials and devices, including magnetic storage devices, photonics, opto-electronics, and molecular transport. Engineering Thin Films and Nanostructures with Ion Beams offers a thorough narrative of the recent advances that make this technology relevant to current and future applications.

Single Ion Induced Spike Effects on Thin Metal Films: Observation and Simulation
Ion Beam Effects in Magnetic Thin Films
Selected Topics in Ion Beam Surface Engineering
Optical Effects of Ion Implantation
Metal Alloy Nanoclusters by Ion Implantation in Silica
Intrinsic Residual Stress Evolution in Thin Films During Energetic Particle Bombardment
Industrial Aspects of Ion-Implantation Equipment and Ion Beam Generation
Nanostructured Transition-Metal Nitride Layers
Nuclear Tracks and Nanostructures
Forensic Applications of Ion-Beam Mixing and Surface Spectroscopy of Latent Fingerprints
Похожие разделы
Смотрите также

Лоусон Дж. Физика пучков заряженных частиц

  • формат djvu
  • размер 5.11 МБ
  • добавлен 10 ноября 2010 г.
Дж. Лоусон. Физика пучков заряженных частиц (The physics of charged-particle beams by J.D. Lawson). Перевод с английского канд. физ. -мат. наук А. В. Агафонов. Под редакцией д-ра физ. -мат. наук, профессора А. А. Коломенского. М.: Изд-во «Мир», 1980, 439 стр. В монографии известного английского физика-теоретика Дж. Лоусона сделана попытка охватить с единой точки зрения всё многообразие пучков заряженных частиц, что отличает её от немногочисленны...

Fortov V.E. Extreme States of Matter: On Earth and in the Cosmos

  • формат pdf
  • размер 26.27 МБ
  • добавлен 11 июля 2011 г.
Springer, 2011. - 332 pp. - (The Frontiers Collection) With its many beautiful colour pictures, this book gives fascinating insights into the unusual forms and behaviour of matter under extremely high pressures and temperatures. These extreme states are generated, among other things, by strong shock, detonation and electric explosion waves, dense laser beams, electron and ion beams, hypersonic entry of spacecraft into dense atmospheres of planets...

Francombe M.H., Vossen J.L. Physics of Thin Films. Plasma Sources for thin film deposition and etching

  • формат pdf
  • размер 36.71 МБ
  • добавлен 05 марта 2011 г.
Academic Press, San Diego, 1994, 322 c. В книге представлены несколько больших обзоров: 1) Конструкция плазменных источников высокой плотности для обработки материалов 2) Плазменные источники на основе электрон-циклотронного резонанса и их использование для плазменного осаждения тонких пленок 3) Несбалансированное магнетронное распыление 4) Формирование частиц (пылевых) в технологической плазме.

Francombe M.H., Vossen J.L. Physics of Thin Films. Vol.14. Contemporary preparative techniques

  • формат pdf
  • размер 16.47 МБ
  • добавлен 06 марта 2011 г.
Academic Press, Boston, 1989, 260 c. В книге представлены такие большие главы: 1) Реактивное распыление 2) Плазменное окисление 3) Катодное дуговое плазменное осаждение тонких пленок 4) Подготовка подложек для осаждения пленок с использованием методик тлеющего разряда

Fridman A. Plasma Physics and Engineering

  • формат pdf
  • размер 10.29 МБ
  • добавлен 28 мая 2010 г.
Plasma (Ionized gases) , Plasma engineering, Plasma (Gaz-ionis?©s) , Plasmas, Technique des. Fundamentals of Plasma Physics and Plasma Chemistry; Physics and Engineering of Electric Discharges. Publication date: 2004. Pages: 852 Language: English

Mahan J.E., Physical vapor deposition of thin films

  • формат pdf
  • размер 5.18 МБ
  • добавлен 05 марта 2011 г.
Wiley, New York, 2000, 312 c. В книге сначала представлено введение о принципах и разрядных системах, используемых для плазменного осаждения пленок. Затем приведена кинетическая теория газов. Рассмотрены механихмы адсорбции и конденсации на поверхности. Дается краткий обзор о вакуумных системах, способах создания и контроля вакуума. Описаны источники, основанные на испарении, распылительные системы (RF, DC, магнетронные), а также механизмы, участ...

Martin P.M. Handbook of Deposition Technologies for Films and Coatings, Third Edition: Science, Applications and Technology

  • формат pdf
  • размер 31.87 МБ
  • добавлен 21 ноября 2011 г.
William Andrew, 2010, 912 pages Recent years have seen a rapid expansion in the applications of advanced thin film coatings in areas including photovoltaics, energy conversion, energy efficiency, biomedical engineering, telecommunications, pharmaceuticals and flat panel displays. In a tough economic climate, surface engineering remains a growth industry, because surface engineered products improve performance, increase energy efficiency, add fu...

Pauleau Y. (Ed.) Materials Surface Processing by Directed Energy Techniques

  • формат pdf
  • размер 9.32 МБ
  • добавлен 31 декабря 2011 г.
Elsevier Science, 2006, Pages: 722 The current status of the science and technology related to coatings, thin films and surface modifications produced by directed energy techniques is assessed in this book. The subject matter is divided into 20 chapters - each presented at a tutorial level - rich with fundamental science and experimental results. New trends and new results are also evoked to give an overview of future developments and applicat...

Powell R.A., Rossnagel S.M. Thin Films

  • формат pdf
  • размер 13.6 МБ
  • добавлен 02 марта 2011 г.
San Diego, Academic Press, 1999, 419 p. Рассмотрены различные конструкции плазменных распылительных систем для осаждения тонких пленок, а также происходящие в них физические процессы. Кроме Введения, содержит следующие главы: 1) Физика распыления 2) Плазменные системы 3) Планарный магнетрон 4) Распылительные устройства 5) Направленное осаждение 6) Планаризованное PVD: использование повышенных температур и/или высокого давления 7) Ионизованное маг...

Rossnagel S.M., Cuomo J.J., Westwood W.D. Handbook of plasma processing technology. Fundamentals, etching, deposition, and surface interaction

  • формат djvu
  • размер 4.98 МБ
  • добавлен 02 марта 2011 г.
Noyes publications, Park Ridge, New Jersey, U.S.A. 1990, 536 стр. Рассматриваются физические основы ряда газовых разрядов, используемых в плазменных технологиях для травления и осаждения различных покрытий. Книга имеет следующие разделы. Techniques for ic processing. Introduction to plasma concepts and discharge configurations. Fundamentals of sputtering and reflection. Bombardment-Induced compositional change with alloys, Oxides, Oxysalts, And h...