Становский A.JI., Тонконогий B.М. Математическое моделирование процесса нанесения ионно-плазменных покрытий на режущий инструмент

В монографии рассмотрены физические основы и математическое моделирование процессов, происходящих при получении покрытий вакуумным ионно-плазменным методом. Основное внимание уделено процессам транспортировки плазмы металлов в разреженной газовой среде, электрообмену движущейся плазмы с поверхностью твердого тела и кинетике гетерогенного плазмохимического синтеза покрытий из ускоренных плазменных потоков. На основе новых физических представлений...

МГТУ им. Н.Э. Баумана 1999, 34 стр. Метод генерации плазмы катодными пятнами вакуумной дуги дает возможность получать сильно ионизованную плазму любых проводящих веществ. В отличив от процессов с тепловой природой (энергия частиц Е = кТ = 1 . 0,3 эВ, где к - константа Больцмана), в которых практически отсутствует ионизация рабочего вещества, в рассматриваемом методе генерируется практически полностью ионизованная плазма с аномально высокими энерг...

Автореферат диссертации на соискание ученой степени доктора физико-математических наук. Специальность 01.04.07 – физика конденсированного состояния. Астана, 2010, 24с. Работа выполнена в Восточно-Казахстанском государственном техническом университете им. Д. Серикбаева и Сумском институте модификации поверхности (г. Сумы, Украина). Диссертационная работа посвящена изучению изменений структуры, элементного состава, фазовых, морфологических и физико...

Отчет, представленный на конкурс НИОКР Молодых ученых и Специалистов НЯЦ РК (Прикладные исследования). Курчатов 2006. - 15 с. Цель работы – исследование процесса фазообразования в пленках, полученных методом магнетронного осаждения. В результате проведенных исследований получены следующие результаты: Установлен порог образование фазы TiN при концентрации азота в плазмообразующем газе 10 об.%. Установлен порог образования сверхпроводящей фазы ?1-N...

М.: Радио и связь, 1986, 232 стр. Рассматриваются физико-химические основы и принципы применения ионно-плазменной обработки материалов в вакууме с целью очистки их поверхностей, травления на поверхности структур субмикронного размера, а также получения пленочных покрытий различных материалов. Анализируются основные закономерности и теоретические представления о процессах ионно-плазменной обработки, рассматриваются характеристики оборудования дл...

Статья. Опубликована в Доклады БГУИР, 2003, т.1, №2, с.78-82. Интегрированная система ионно-ассистированного магнетронного распыления была разработана для расширения возможностей управления параметрами осаждаемых пленок. Преимуществом предлагаемого способа нанесения является высокая скорость роста покрытия с заданной структурой и соответственно физико-химическими свойствами. Приведена схема устройства и результаты исследований вольтамперных харак...

Рассмотрены физические основы магнетронного распыления и разновидности магнетронных систем для нанесения тонких пленок и покрытий различного назначения, в том числе системы с усиленной ионизацией газовой среды и импульсные магнетронные распылительные системы. Для научных и инженерно-технических работников, аспирантов и студентов высших технических заведений, специализирующихся в области электронных физико-технических устройств и ионно-плазменных...

Статья. Опубликована в УФЖ,2003г., т.175, №5, с.515-544. Обзор. Рассмотрено современное состояние работ по использованию плазменных струй для модификации поверхностных слоев металлических изделий и исследованию процессов легирования и массопереноса элементов. Обсуждается влияние параметров термической плазмы на эффективность обработки поверхности металлических изделий, в. ч. импульсной плазмы.

Статья. Опубликована в сборнике научных трудов Вопросы проектирования и производства конструкций летательных аппаратов. Х., ХАИ, 2010, с. 304 - 310. Во многих технологических плазменных процессах и операциях, где зачастую основная роль принадлежит тлеющему разряду, возникает проблема несанкционированного его перехода в дуговой разряд. Такое самопроизвольное дугообразование наблюдается при азотировании в стационарном тлеющем разряде, при ионной оч...

Статья. Опубликована в Материалы XХХIХ научно-технической конференции по итогам работы профессорско-преподавательского состава СевКавГТУ за 2009 год. Том 1. Естественные и точные науки. Технические и прикладные науки. Ставрополь: СевКавГТУ, 2010. 2с. Прямое осаждение пленок непосредственно из пучков ионов является идеальным процессом, поскольку позволяет управлять энергией частиц осаждаемого материала [1,2]. Однако для реализации этого процесса т...