Тарала В.А., Шевченко Е.Ф. Исследование газофазного осаждения пленок аморфного углерода с ионно-плазменной стимуляцией процесса

Статья

формат pdf
размер 221.83 КБ
добавлен 09 июня 2011 г.

Тарала В.А., Шевченко Е.Ф. Исследование газофазного осаждения пленок аморфного углерода с ионно-плазменной стимуляцией процесса

Статья. Опубликована в Материалы XХХIХ научно-технической конференции по итогам работы профессорско-преподавательского состава СевКавГТУ за 2009 год. Том
1. Естественные и точные науки. Технические и прикладные науки. Ставрополь: СевКавГТУ, 2010. 2с.
Прямое осаждение пленок непосредственно из пучков ионов является идеальным процессом, поскольку позволяет управлять энергией частиц осаждаемого материала [1,2]. Однако для реализации этого процесса требуется специальное оборудование в виде автономного источника ионов и его блока питания. Кроме того, для напыления пленок аморфного углерода (a-C) ионно-плазменным методом, может потребоваться проведение НИОКР, сложных пуско-наладочных работ. В связи с этим актуален вопрос о проведении исследований, которые будут полезны при составлении технологического процесса ионно-плазменного осаждения a-C пленок.
Цель работы: установить основные особенности ионно-плазменного осаждения пленок, выявить определяющие параметры метода и установить их влияние на характеристики синтезируемых пленок.

Похожие разделы

Смотрите также

Аксенов И.И., Падалка В.Г., Хороших В.М. Формирование потоков Ме плазмы (обзор)

формат pdf
размер 3.15 МБ
добавлен 12 мая 2010 г.

М.: ЦНИИатоминформ, 1984г. - 84с. Анализируется способы и устройства для генерации металлической плазмы, основанные на использовании вакуумно-дугового разряда с расходуемым катодом. Рассматриваются работы, связанные, главным образом, с проблемами ионно-плазменной технологии обработки материалов и техники получения вакуума. Особое внимание уделено вопросам управления плазмой скрещенными E- и H- полями: фокусировке, отклонению, транспортировке и се...

Жаканбаев Е.А. Структура и свойства покрытий из нитридов ниобия и титана при ионно-плазменном формировании

Дисертация

формат pdf
размер 366.76 КБ
добавлен 06 августа 2011 г.

Отчет, представленный на конкурс НИОКР Молодых ученых и Специалистов НЯЦ РК (Прикладные исследования). Курчатов 2006. - 15 с. Цель работы – исследование процесса фазообразования в пленках, полученных методом магнетронного осаждения. В результате проведенных исследований получены следующие результаты: Установлен порог образование фазы TiN при концентрации азота в плазмообразующем газе 10 об.%. Установлен порог образования сверхпроводящей фазы ?1-N...

Ивановский Г.Ф. Ионно - Плазменная обработка материалов

формат djvu
размер 82.41 МБ
добавлен 12 июля 2010 г.

М.: Радио и связь, 1986, 232 стр. Рассматриваются физико-химические основы и принципы применения ионно-плазменной обработки материалов в вакууме с целью очистки их поверхностей, травления на поверхности структур субмикронного размера, а также получения пленочных покрытий различных материалов. Анализируются основные закономерности и теоретические представления о процессах ионно-плазменной обработки, рассматриваются характеристики оборудования дл...

Котов Д.А. Исследование вольтамперных характеристик интегрированной ионно-плазменной системы

Статья

формат pdf
размер 249 КБ
добавлен 23 мая 2011 г.

Статья. Опубликована в Доклады БГУИР, 2003, т.1, №2, с.78-82. Интегрированная система ионно-ассистированного магнетронного распыления была разработана для расширения возможностей управления параметрами осаждаемых пленок. Преимуществом предлагаемого способа нанесения является высокая скорость роста покрытия с заданной структурой и соответственно физико-химическими свойствами. Приведена схема устройства и результаты исследований вольтамперных харак...

Степанов И.Б. Оборудование и методы импульсно-периодической ионной и плазменной обработки материалов

Дисертация

формат pdf
размер 3.88 МБ
добавлен 12 июля 2011 г.

Автореферат диссертации на соискание ученой степени доктора технических наук Томск, 2010. 47с. Специальность 01.04.20 – физика пучков заряженных частиц и ускорительная техника Работа выполнена в ГОУ ВПО "Национальный исследовательский "Томский политехнический университет" Цель работы состояла в проведении исследований процессов генерации ионных потоков с использованием короткоимпульсных высокочастотных потенциалов смещения и многоэлектродных сист...

Шулаев В.М., Андреев А.А., Руденко В.П. Модернизация вакуумно-дуговых установок для синтеза покрытий и азотирования методом ионной имплантации и осаждения

Статья

формат pdf
размер 261.83 КБ
добавлен 16 июня 2011 г.

Статья. Опубликована в ФІП ФИП PSE, 2006, т. 4, № 3 – 4, с.136-142 Предложена модернизация вакуумно-дуговых установок, в том числе типа Булат и ННВ 6.6, для реализации метода плазменной ионной имплантации и осаждения (метод PBII&D). Процессы ионного азотирования изделий и последующего осаждения покрытий осуществляются при приложении к обрабатываемому изделию постоянного и высоковольтного импульсного потенциалов с различными частотами и амплит...

Francombe M.H., Vossen J.L. Physics of Thin Films. Plasma Sources for thin film deposition and etching

формат pdf
размер 36.71 МБ
добавлен 05 марта 2011 г.

Academic Press, San Diego, 1994, 322 c. В книге представлены несколько больших обзоров: 1) Конструкция плазменных источников высокой плотности для обработки материалов 2) Плазменные источники на основе электрон-циклотронного резонанса и их использование для плазменного осаждения тонких пленок 3) Несбалансированное магнетронное распыление 4) Формирование частиц (пылевых) в технологической плазме.

Francombe M.H., Vossen J.L. Physics of Thin Films. Vol.14. Contemporary preparative techniques

формат pdf
размер 16.47 МБ
добавлен 06 марта 2011 г.

Academic Press, Boston, 1989, 260 c. В книге представлены такие большие главы: 1) Реактивное распыление 2) Плазменное окисление 3) Катодное дуговое плазменное осаждение тонких пленок 4) Подготовка подложек для осаждения пленок с использованием методик тлеющего разряда

Mahan J.E., Physical vapor deposition of thin films

формат pdf
размер 5.18 МБ
добавлен 05 марта 2011 г.

Wiley, New York, 2000, 312 c. В книге сначала представлено введение о принципах и разрядных системах, используемых для плазменного осаждения пленок. Затем приведена кинетическая теория газов. Рассмотрены механихмы адсорбции и конденсации на поверхности. Дается краткий обзор о вакуумных системах, способах создания и контроля вакуума. Описаны источники, основанные на испарении, распылительные системы (RF, DC, магнетронные), а также механизмы, участ...

Powell R.A., Rossnagel S.M. Thin Films

формат pdf
размер 13.6 МБ
добавлен 02 марта 2011 г.

San Diego, Academic Press, 1999, 419 p. Рассмотрены различные конструкции плазменных распылительных систем для осаждения тонких пленок, а также происходящие в них физические процессы. Кроме Введения, содержит следующие главы: 1) Физика распыления 2) Плазменные системы 3) Планарный магнетрон 4) Распылительные устройства 5) Направленное осаждение 6) Планаризованное PVD: использование повышенных температур и/или высокого давления 7) Ионизованное маг...