Под ред. Дж. Р. Брюэра: Пер. с англ. — М.: Радио и связь, 1984. 336
с, ил.
Рассмотрены процессы высокоразрешающей электронно-лучевой
литографии, взаимодействие электронного луча с резистом, способы
изготовления фотошаблонов и переноса изображения на
полупроводниковую пластину. Даны примеры электронно-лучевых
установок, тенденции их усовершенствования. Определены области
наиболее целесообразного применения электронно-лучевой
литографии.
Для широкого круга инженерно-технических работников, занимающихся
проектированием и изготовлением полупроводниковых приборов и
интегральных схем.