Перевод с английского под редакцией Ф. П. Пресса. - М.: Радио и
связь, 1984. - 336 с., ил.
Рассмотрены процессы высокоразрешающей электронно-лучевой
литографии, взаимодействие электронного луча с резистом, способы
изготовления фотошаблонов и переноса изображения на
полупроводниковую пластину. Даны примеры электронно-лучевых
установок. Определены области наиболее целесообразного применения
электронно-лучевой литографии.
Для широкого круга инженерно-технической работников, занимающихся
проектированием и изготовлением полупроводниковых приборов и
интегральных схем.