Ефремов А.М., Светцов В.И., Рыбкин В.В. Вакуумно-плазменные процессы и технологии

формат pdf
размер 4.85 МБ
добавлен 27 февраля 2010 г.

Учебное пособие. ГОУВПО Иван. гос. хим. -технол. ун-т. Иваново. 2006. 260 с.
Рассмотрены процессы образования активных частиц в плазме и их взаимодействия с поверхностью твердого тела, а так же технологические применения неравновесной плазмы для травления и модификации полимерных и неорганических материалов. Пособие предназначено для студентов специальности «Химическая технология монокристаллов, материалов и изделий электронной техники» и может быть полезно для студентов и аспирантов, специализирующихся по технологии микроэлектроники и в смежных областях.

Похожие разделы

Смотрите также

Аксёнов Д.С., Аксёнов И.И., Стрельницкий В.Е. Вакуумно-дуговые источники эрозионной плазмы с магнитными фильтрами: Обзор

Статья

формат pdf
размер 4.28 МБ
добавлен 01 июня 2011 г.

Статья. Опубликована в ВАНТ, 2007, №2, с.190-202 Кратко рассмотрено современное состояние проблемы генерирования потоков эрозионной вакуумно-дуговой плазмы, очищенной от макрочастиц катодного материала. Приведены реферативные описания 27 вакуумно-дуговых источников плазмы с магнитными фильтрами, предназначенных для использования в технологических процессах осаждения плёнок микро- и нанометрового диапазонов толщин. Использованы материалы патентов...

Аксенов И.И., Падалка В.Г., Хороших В.М. Формирование потоков Ме плазмы (обзор)

формат pdf
размер 3.15 МБ
добавлен 12 мая 2010 г.

М.: ЦНИИатоминформ, 1984г. - 84с. Анализируется способы и устройства для генерации металлической плазмы, основанные на использовании вакуумно-дугового разряда с расходуемым катодом. Рассматриваются работы, связанные, главным образом, с проблемами ионно-плазменной технологии обработки материалов и техники получения вакуума. Особое внимание уделено вопросам управления плазмой скрещенными E- и H- полями: фокусировке, отклонению, транспортировке и се...

Габович М.Д. Физика и техника плазменных источников ионов

формат pdf
размер 5.37 МБ
добавлен 06 марта 2011 г.

Москва, Атомиздат, 1972, 304 с. В книге систематизированы сведения об устройстве, физических основах действия, свойствах и параметрах плазменных источников ионов - приборов, которые нашли широкое применение в различных областях науки и техники. Рассматриваются плазменные источники атомарных и молекулярных ионов водорода, многозарядных ионов, отрицательных ионов, ионов тугоплавких элементов, а также способы формирования ионных пучков, нейтрализаци...

Зыков А.В., Фареник В.И., Юнаков Н.Н. Вакуумно-плазменные технологии нанесения покрытий

Практикум

формат pdf
размер 372.01 КБ
добавлен 01 июля 2011 г.

Учебно-методические указания. Учебно-научный комплекс физических технологий Харьковского национального университета им. В.Н. Каразина и Научного физико-технологического центра ХГНУ, Харьков, 1999., 22с. Методические указания могут быть использованы при изучении курсов «Функциональные покрытия», «Современные вакуумно-плазменные технологические системы», которые читаются студентам 4-5 курсов кафедры Физических технологий Физико-технического факульт...

Презентация - Плазменные покрытия

Презентация

формат ppt
размер 2.02 МБ
добавлен 03 апреля 2011 г.

Презентация -курса лекций "Плазменные покрытия" 32 слайда Кафедра ВЭПТ Лектор Соловьев А. А. Доцент кафедры ВЭПТ, Н. с. Института сильноточной электроники СО РАН

Саблев Л.П. и др. Сжатый вакуумно-дуговой разряд и его применение для нагрева изделий в вакуумных печах отжига и химико-термической обработки

Статья

формат pdf
размер 405.92 КБ
добавлен 01 июля 2011 г.

Статья в Восточно-Европейский журнал передовых технологий 1/7 ( 37 ) 2009 с.4-8. В работе приведено описание сжатого вакуумно-дугового разряда (СВДР), его характеристики и примеры его использования для нагрева изделий в печах вакуумного отжига и химико-термической обработки. Нагрев изделий производится потоком электронов, ускоренных до энергий 100 – 300 эВ

Сысоев Ю.А. Инициирование вакуумно-дугового разряда в технологических источниках плазмы

Статья

формат pdf
размер 2.09 МБ
добавлен 10 августа 2011 г.

Статья. Опубликована в сборнике научных трудов Вопросы проектирования и производства конструкций летательных аппаратов. Х., ХАИ, 2010, с. 280-295. В работе выполнены комплексные исследования надежности и долговечности систем инициирования вакуумно-дугового разряда в технологических источниках плазмы различного типа: контактные с искровым поверхностным пробоем, двухступенчатые системы запуска с автономным плазменным инжектором и системы поджига, о...

Туманов Ю.Н. Плазменные и высокочастотные процессы получения и обработки материалов в ядерном топливном цикле: настоящее и будущее

формат djvu
размер 11.19 МБ
добавлен 18 октября 2009 г.

Туманов Ю. Н. Плазменные и высокочастотные процессы получения и обработки материалов в ядерном топливном цикле: настоящее и будущее. — М.: ФИЗМАТЛИТ, 2003. — 760 с. Рассмотрены применения технологической плазмы и высокочастотных электромагнитных полей в ядерном топливном цикле (ЯТЦ) и в смежных областях технологии и техники в комбинации с процессами сорбционного, экстракционного и ректификационного аффинажа. Проанализирован уровень развития плаз...

Шулаев В.М., Андреев А.А., Руденко В.П. Модернизация вакуумно-дуговых установок для синтеза покрытий и азотирования методом ионной имплантации и осаждения

Статья

формат pdf
размер 261.83 КБ
добавлен 16 июня 2011 г.

Статья. Опубликована в ФІП ФИП PSE, 2006, т. 4, № 3 – 4, с.136-142 Предложена модернизация вакуумно-дуговых установок, в том числе типа Булат и ННВ 6.6, для реализации метода плазменной ионной имплантации и осаждения (метод PBII&D). Процессы ионного азотирования изделий и последующего осаждения покрытий осуществляются при приложении к обрабатываемому изделию постоянного и высоковольтного импульсного потенциалов с различными частотами и амплит...

Powell R.A., Rossnagel S.M. Thin Films

формат pdf
размер 13.6 МБ
добавлен 02 марта 2011 г.

San Diego, Academic Press, 1999, 419 p. Рассмотрены различные конструкции плазменных распылительных систем для осаждения тонких пленок, а также происходящие в них физические процессы. Кроме Введения, содержит следующие главы: 1) Физика распыления 2) Плазменные системы 3) Планарный магнетрон 4) Распылительные устройства 5) Направленное осаждение 6) Планаризованное PVD: использование повышенных температур и/или высокого давления 7) Ионизованное маг...