• формат pdf
  • размер 13.6 МБ
  • добавлен 02 марта 2011 г.
Powell R.A., Rossnagel S.M. Thin Films
San Diego, Academic Press, 1999, 419 p.
Рассмотрены различные конструкции плазменных распылительных систем для осаждения тонких пленок, а также происходящие в них физические процессы. Кроме Введения, содержит следующие главы:
1) Физика распыления
2) Плазменные системы
3) Планарный магнетрон
4) Распылительные устройства
5) Направленное осаждение
6) Планаризованное PVD: использование повышенных температур и/или высокого давления
7) Ионизованное магнетронное распылительное осаждение.
8) PVD материалы и процессы
9) Процесс моделирования магнетронного осаждения
10) Распылительные мишени
Похожие разделы
Смотрите также

D'Agostino R., Favia P., Kawai Y., Ikegami H., Sato N., Arefi-Khonsari F. Advanced Plasma Technology

  • формат pdf
  • размер 7.26 МБ
  • добавлен 18 сентября 2011 г.
Wiley-VCH, Weinheim, 2008, 457 pages A panel of internationally renowned scientists discuss the latest results in plasma technology. This volume has been compiled with both a didactic approach and an overview of the newest achievements for industrial applications. It is divided into two main sections. One is focused on fundamental technology, including plasma production and control, high-pressure discharges, modeling and simulation, diagnostics...

Francombe M.H., Vossen J.L. Physics of Thin Films. Plasma Sources for thin film deposition and etching

  • формат pdf
  • размер 36.71 МБ
  • добавлен 05 марта 2011 г.
Academic Press, San Diego, 1994, 322 c. В книге представлены несколько больших обзоров: 1) Конструкция плазменных источников высокой плотности для обработки материалов 2) Плазменные источники на основе электрон-циклотронного резонанса и их использование для плазменного осаждения тонких пленок 3) Несбалансированное магнетронное распыление 4) Формирование частиц (пылевых) в технологической плазме.

Francombe M.H., Vossen J.L. Physics of Thin Films. Vol.14. Contemporary preparative techniques

  • формат pdf
  • размер 16.47 МБ
  • добавлен 06 марта 2011 г.
Academic Press, Boston, 1989, 260 c. В книге представлены такие большие главы: 1) Реактивное распыление 2) Плазменное окисление 3) Катодное дуговое плазменное осаждение тонких пленок 4) Подготовка подложек для осаждения пленок с использованием методик тлеющего разряда

Knystautas E. Engineering Thin Films and Nanostructures with Ion Beams

  • формат pdf
  • размер 29.82 МБ
  • добавлен 24 ноября 2011 г.
CRC Press, Taylor & Francis Group, 2005, Pages: 592 While ion-beam techniques have been used to create thin films in the semiconductor industry for several decades, these methods have been too costly for other surface treatment applications. However, as manufacturing devices become increasingly smaller, the use of a directed-energy ion beam is finding novel industrial applications that require the custom tailoring of new materials and devi...

Mahan J.E., Physical vapor deposition of thin films

  • формат pdf
  • размер 5.18 МБ
  • добавлен 05 марта 2011 г.
Wiley, New York, 2000, 312 c. В книге сначала представлено введение о принципах и разрядных системах, используемых для плазменного осаждения пленок. Затем приведена кинетическая теория газов. Рассмотрены механихмы адсорбции и конденсации на поверхности. Дается краткий обзор о вакуумных системах, способах создания и контроля вакуума. Описаны источники, основанные на испарении, распылительные системы (RF, DC, магнетронные), а также механизмы, участ...

Martin P.M. Handbook of Deposition Technologies for Films and Coatings, Third Edition: Science, Applications and Technology

  • формат pdf
  • размер 31.87 МБ
  • добавлен 21 ноября 2011 г.
William Andrew, 2010, 912 pages Recent years have seen a rapid expansion in the applications of advanced thin film coatings in areas including photovoltaics, energy conversion, energy efficiency, biomedical engineering, telecommunications, pharmaceuticals and flat panel displays. In a tough economic climate, surface engineering remains a growth industry, because surface engineered products improve performance, increase energy efficiency, add fu...

Ohno S., Kawaguchi Y., Miyamura A. etc. High rate deposition of tin-doped indium oxide films by reactive magnetron

  • формат pdf
  • размер 231.59 КБ
  • добавлен 18 ноября 2009 г.
Приведены результаты исследования применения метода оптической эмиссионной спектроскопии плазмы магнетронного разряда для оптимизации процесса магнетронного реактивного напыления оксидов индия-олова

Pauleau Y. (Ed.) Materials Surface Processing by Directed Energy Techniques

  • формат pdf
  • размер 9.32 МБ
  • добавлен 31 декабря 2011 г.
Elsevier Science, 2006, Pages: 722 The current status of the science and technology related to coatings, thin films and surface modifications produced by directed energy techniques is assessed in this book. The subject matter is divided into 20 chapters - each presented at a tutorial level - rich with fundamental science and experimental results. New trends and new results are also evoked to give an overview of future developments and applicat...

Rossnagel S.M., Cuomo J.J., Westwood W.D. Handbook of plasma processing technology. Fundamentals, etching, deposition, and surface interaction

  • формат djvu
  • размер 4.98 МБ
  • добавлен 02 марта 2011 г.
Noyes publications, Park Ridge, New Jersey, U.S.A. 1990, 536 стр. Рассматриваются физические основы ряда газовых разрядов, используемых в плазменных технологиях для травления и осаждения различных покрытий. Книга имеет следующие разделы. Techniques for ic processing. Introduction to plasma concepts and discharge configurations. Fundamentals of sputtering and reflection. Bombardment-Induced compositional change with alloys, Oxides, Oxysalts, And h...

Roth J.R. Industrial Plasma Engineering. Volume 2: Applications to Nonthermal Plasma Processing

  • формат pdf
  • размер 4.73 МБ
  • добавлен 13 марта 2011 г.
IOP, Institute of Physics Publishing, Bristol and Philadelphia, 2001, 645 c. Второй том книги о плазменных технологиях. Содержит разделы: Surface Interactions in Plasma Processing Atmospheric Pressure Plasma Sources Vacuum Plasma Sources Plasma Reactors for Plasma Processing Specialized Techniques and Devices for Plasma Processing Parametric Plasma Effects On Plasma Processing Diagnostics for Plasma Processing Plasma Treatment of Surfaces Surface...