Quirk M., Serda J. Semiconductor Manufacturing Technology

формат djvu, ppt
размер 65.86 МБ
добавлен 01 января 2012 г.

Prentice Hall, 2000, 666 p. Язык - английский.
Технология производства полупроводников.
Книга известных американских специалистов (Michael Quirk, Julian Serda) охватывает практически все важнейщие аспекты технологии субмикронных СБИС. Несмотря на то, что она написана в 2000 г., до сих пор книга не потеряла своей ценности и актуальности и не только для отечественного читателя, она по прежнему является одним из основных хрестоматийных учебников по современной полупроводниковой технологии в США. В ведущих университетах и колледжах по ней обучают студентов в объеме 2-х и 4-х летних программ полупроводниковой технологии.
Материал книги последовательно изложен в 20 частях (главах), в конце каждой главы приведено свое резюме, ключевые термины, обзорные вопросы, перечень сайтов по данной тематике.
Книга написана простым и доступным языком, легко поддающимся переводу.
Книга предназначена в качестве учебного пособия для студентов и аспирантов вузов соответствующих специальностей, также может быть полезной преподавателям и практическим профессионалам в технике полупроводников, а также специалистам смежных областей электроники.
К сожалению, в настоящее время доступны только 510 стр. из 666.
Вместе с книгой дополнительно выкладывается в формате .ppt краткая презентация каждой отдельной главы (в том числе главы 17-20), что может быть очень удобно для преподавателей и студентов из-за визуального представления материала и возможности его преобразования (включая замену английского языка на русский).
Contents:
Introduction to the Semiconductor Industry
Characteristics of Semiconductor Materials
Device Technologies
Silicon and Wafer Preparation
Chemicals in Semiconductor Fabrication
Contamination Control In Wafer Fabs
Metrology and Defect Inspection
Gas Control in Process Chambers
IC Fabrication Process Overview
Oxidation
Deposition
Metallization
Photolithography: Vapor Prime to Soft Bake
Photolithography: Alignment and Exposure
Photolithography: Photoresist Development and Advanced Lithography
Etch
Ion Implant
Chemical Mechanical Planarization
Wafer Test
Assembly and Packaging.
Only 17 chapters (510 pages).

Смотрите также

Brennan K.F., Brown A.S. Theory of Modern Electronic Semiconductor Devices

формат pdf
размер 6.81 МБ
добавлен 21 декабря 2011 г.

John Wiley & Sons, Inc., 2002, - 460 pages. The book contains nine chapters in total. The first chapter provides an overview of emerging trends in compound semiconductors and computing technology. Authors have tried to focus the book on the three emerging areas: telecommunications, quantum structures, and challenges and alternatives to CMOS technology. The balance of the book examines these three issues in detail. There are sections throughou...

Garry S. May, Ph.D., Costas J. Spanos, Ph.D. Fundamentals of Semiconductor Manufacturing and Process Control

формат pdf
размер 4.97 МБ
добавлен 11 января 2012 г.

Contents. Introduction to Semiconductor Manufacturing. Technology Overview. Process Monitoring. Statistical Fundamentals. Yield Modeling. Statistical Process Control. Statistical Experimental Design. Process Modeling. Advanced Process Control. Process and Equipment Diagnosis. of the book places the manufacture of integrated circuits into its. historical context, as well as provides anoverviewof modern semiconductorman. ufacturing. n the Chapter 2...

Handbook of semiconductor manufactruring technology (2008)

Справочник

формат pdf
размер 74.09 МБ
добавлен 26 мая 2011 г.

Retaining the comprehensive and in-depth approach that cemented the bestselling first edition's place as a standard reference in the field, the Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology, Second Edition features new and updated material that keeps it at the vanguard of today's most dynamic and rapidly growing field. Iconic experts Robert Doering and Yoshio Nishi have again assembled a team of the world's leading specialists in every area...

Levinshtein M., Kostamovaara J., Vainshtein S. Breakdown Phenomena in Semiconductors and Semiconductor Devices

формат pdf
размер 9.14 МБ
добавлен 11 декабря 2011 г.

World Scientific Publishing, 2005, 208 pages. Impact ionization, avalanche and breakdown phenomena form the basis of many very interesting and important semiconductor devices, such as avalanche photodiodes, avalanche transistors, suppressors, sharpening diodes (diodes with delayed breakdown), as well as IMPATT and TRAPATT diodes. In order to provide maximal speed and power, many semiconductor devices must operate under or very close to breakdow...

Lin B.J. Optical Lithography: Here is Why

формат pdf
размер 29.27 МБ
добавлен 30 ноября 2011 г.

SPIE (Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers): 2010. (SPIE Press Monograph Vol. PM190). - 300 pp. This book is aimed at new and experienced engineers, technology managers, and senior technicians who want to enrich their understanding of the image formation physics of a lithographic system. Readers will gain knowledge of the basic equations and constants that drive optical lithography, learn the basics of exposure systems and image for...

Mack C. Fundamental Principles of Optical Lithography

формат pdf
размер 7.45 МБ
добавлен 04 декабря 2011 г.

Wiley, 2008.- 534 pages. Microlithography is the main technical driving force behind one of the most important phenomenon in the history of technology - microelectronics and the incredible shrinking transistor. These dramatic increases in electronic functionality per unit cost each year for early five decades, have transformed society. The gating piece of technology in this marvel of manufacturing progress has always been the process of lithograp...

Oktyabrsky S., Ye P.D. (Eds.) Fundamentals of III-V Semiconductor MOSFETs

Статья

формат pdf
размер 12.24 МБ
добавлен 14 января 2012 г.

Сборник статей. Springer, 2010.- 445p. Fundamentals of III-V Semiconductor MOSFETs presents the fundamentals and current status of research of compound semiconductor metal-oxide-semiconductor field-effect transistors (MOSFETs) that are envisioned as a future replacement of silicon in digital circuits. The material covered begins with a review of specific properties of III-V semiconductors and available technologies making them attractive to MOSFE...

Tang D.D., Lee Y.-J. Magnetic Memory: Fundamentals and Technology

формат pdf
размер 2.78 МБ
добавлен 13 октября 2011 г.

Cambridge University Press, 2010, 196 pages If you are a semiconductor engineer or a magnetics physicist developing magnetic memory, get the information you need with this, the first book on magnetic memory. From magnetics to the engineering design of memory, this practical book explains key magnetic properties and how they are related to memory performance, characterization methods of magnetic films, and tunneling magnetoresistance effect devi...

Tarui Y. VLSI Technology (Fundamentals and Aplications)

формат djvu
размер 7.6 МБ
добавлен 07 марта 2011 г.

Springer 1986 (Tokyo 1981) pp.450. VLSI – Very Lage Scale Integration – Технология больших интегральных схем. . VLSI Technology summarizes the main results of the research performed by the Japanese VLSI Technical Research Association. The studies concentrated on silicon as the major basis of modern semiconductor devices. The results presented are on microfabrication technology, the electron-beam concept, the required software, the pattern transfe...

Tung C.-H., Sheng G.T.T., Lu C.-Y. ULSI Semiconductor Technology Atlas

формат pdf
размер 26.26 МБ
добавлен 25 сентября 2011 г.

Wiley, 2003, 666 pages More than 1,100 TEM images illustrate the science of ULSI The natural outgrowth of VLSI (Very Large Scale Integration), Ultra Large Scale Integration (ULSI) refers to semiconductor chips with more than 10 million devices per chip. Written by three renowned pioneers in their field, ULSI Semiconductor Technology Atlas uses examples and TEM (Transmission Electron Microscopy) micrographs to explain and illustrate ULSI proce...