Sunset Beach, CA: Lattice Press, 2002. - 826 pp. (на англ яз. )
Книга представляет собой 4-й (и последний на сегодняшний день) том
широко известной серии из 4 книг, посвященной технологии СБИС.
Настоящий том посвящен рассмотрению технологических нововведений,
появившихся на рубеже тысячелетий и характерных для поколений СБИС
с минимальным размером элемента 0,18 мкм и менее. Все эти
направления активно развиваются и в настоящее время.
К числу этих технологических направлений относятся:
- медная металлизация,
- межуровневые диэлектрики с низкой диэлектрической
проницаемостью,
- двойной дамаскинный процесс для многоуровневой металлизации,
- диэлектрики с высокой диэлектрической проницаемостью,
используемые в качестве подзатворного диэлектрика и в микросхемах
динамической памяти (DRAM),
- 300 мм кремниевые пластины,
- химико-механическая полировка,
- фотолитография в дальней ультрафиолетовой области с
использованием эксимерных лазеров,
- фоторезисты с "химическим усилением" (chemically-amplified),
- эпитаксиальные слои Si:Ge,
- кремний на диэлектрике (SOI).
Wolf S. Silicon Processing for the VLSI Era. Vol. 4. Deep Submicron Process Technology
Смотрите также
Baca A.G., Ashby C.I.H. Fabrication of GaAs Devices
The Institution of Engineering and Technology, 2009, 350 pages. Scope: This book provides fundamental and practical information on all aspects of GaAs processing. The book also gives pragmatic advice on cleaning and passivation, wet and dry etching and photolithography, and dry etching. Other topics covered include device performance for HBTs (Heterojunction Bipolar Transistors) and FETs (Field Effect Transistors), how these relate to processin...
Basu S. (ed.). Crystalline Silicon - Properties and Uses
InTech, 2011. - 344 pages. The exciting world of crystalline silicon is the source of the spectacular advancement of discrete electronic devices and solar cells. The exploitation of ever changing properties of crystalline silicon with dimensional transformation may indicate more innovative silicon based technologies in near future. For example, the discovery of nanocrystalline silicon has largely overcome the obstacles of using silicon as optoele...
Garry S. May, Ph.D., Costas J. Spanos, Ph.D. Fundamentals of Semiconductor Manufacturing and Process Control
Contents. Introduction to Semiconductor Manufacturing. Technology Overview. Process Monitoring. Statistical Fundamentals. Yield Modeling. Statistical Process Control. Statistical Experimental Design. Process Modeling. Advanced Process Control. Process and Equipment Diagnosis. of the book places the manufacture of integrated circuits into its. historical context, as well as provides anoverviewof modern semiconductorman. ufacturing. n the Chapter 2...
Helbert J. Handbook of VLSI Microlitghography. Principles, Technology, and Applications
Noyes Publications/William Andrew; 2nd edition, 2001. - 1022 p. This handbook gives readers a close look at the entire technology of printing very high resolution and high density integrated circuit (IC) patterns into thin resist coatings, including optical lithography, electron beam, ion beam, and x-ray lithography. The book's main theme is the special printing process needed to achieve volume high density IC chip production, especially in the...
Suzuki K., Smith B.W. Microlithography - Science and Technology
CRC Press, 2007, 864 pages. 2nd Edition (Opitcal Science and Engineering Series). This new edition of the bestselling Microlithography: Science and Technology provides a balanced treatment of theoretical and operational considerations, from elementary concepts to advanced aspects of modern submicron microlithography. Each chapter reflects the current research and practices from the world's leading academic and industrial laboratories detailed by...
Tarui Y. VLSI Technology (Fundamentals and Aplications)
Springer 1986 (Tokyo 1981) pp.450. VLSI – Very Lage Scale Integration – Технология больших интегральных схем. . VLSI Technology summarizes the main results of the research performed by the Japanese VLSI Technical Research Association. The studies concentrated on silicon as the major basis of modern semiconductor devices. The results presented are on microfabrication technology, the electron-beam concept, the required software, the pattern transfe...
Tung C.-H., Sheng G.T.T., Lu C.-Y. ULSI Semiconductor Technology Atlas
Wiley, 2003, 666 pages More than 1,100 TEM images illustrate the science of ULSI The natural outgrowth of VLSI (Very Large Scale Integration), Ultra Large Scale Integration (ULSI) refers to semiconductor chips with more than 10 million devices per chip. Written by three renowned pioneers in their field, ULSI Semiconductor Technology Atlas uses examples and TEM (Transmission Electron Microscopy) micrographs to explain and illustrate ULSI proce...
Wolf S. Silicon Processing for the VLSI Era. Vol. 3. The Submicron MOSFET
Sunset Beach, CA: Lattice Press, 1995. - 744 pp. (на англ яз. ) Книга представляет собой 3-й том известной серии из 4 книг, посвященной технологии СБИС. Настоящий том посвящен рассмотрению важнейшей для технологии современных СБИС области - МДП-транзисторам с субмикронной длиной канала. В книге рассматривается многосторонняя взаимосвязь физики, конструкции и технологии субмикронных транзисторных структур. Значительное внимание уделяется рассмотре...
Wolf S. Silicon Processing for the VLSI Era. Vol.2. Process Integration
Sunset Beach, CA: Lattice Press, 1990. - 785 p. (на англ яз. ). Книга известного американского специалиста проф. Стэнли Волфа является вторым томом широко известной серии из 4-х книг, охватывающей практически все аспекты технологии СБИС. Несмотря на то, что этот том написан в 1990 г., во многом книга не потеряла своей ценности и в настоящее время, в частности, из-за полноты охвата темы, а также ясного и точного стиля изложения. Книга посвящена во...
Wolf S., Tauber R.N. Silicon Processing for the VLSI Era. Vol. 1. Process Technology
Sunset Beach, CA: Lattice Press, 1986. - 684 pp. (на англ яз. ). Книга представляет собой первый том широко известной серии из 4-х книг, охватывающей практически все вопросы технологии СБИС. Несмотря на то, что книга написана в 1986 г., во многом она не потеряла своей ценности и в настоящее время. В книге удачно воплощено стремление осветить все аспекты технологии СБИС с единой точки зрения, при этом весь материал книги отличается высоким уровнем...