degree
  • формат doc
  • размер 2.46 МБ
  • добавлен 20 сентября 2010 г.
Зарядовые явления в структурах металл-диэлектрик-полупроводник (МДП) в составе IGBT
Магистерская выпускная работа "Зарядовые явления в МДП-структурах в составе IGBT".

МЭИ ТУ, 2007г., Кафедра "Микроэлектроника и полупроводниковые приборы", направление "Силовые полупроводниковые приборы".
Работа содержит 102 стр.

Идеальная МДП-структура.
Приповерхностная область пространственного заряда.
Ёмкость ОПЗ.
Характеристики идеальной МДП-структуры.
Реальная Si-SiO2 – МОП-структура.
Дефекты в термических плёнках SiO2 на кремнии.
Собственные дефекты в SiO2.
Водородосодержащие примеси в SiO2.
Вольт-фарадные методы исследования МДП-структур.
Высокочастотный метод Термана.
Низкочастотный метод Берглунда, реализованный по квазистатической методике.
Биполярные транзисторы с изолированным затвором.
Радиационная технология уменьшения времени жизни.
Вывод.
Экспериментальная часть.
Требования к экспериментальным методикам.
Измерительный комплекс для контроля состояния границы раздела Si-SiO2.
Технология изготовления образцов и структура МДП-конденсаторов.
Исследования структур с тонким окислом.
Исследования высокочастотной вольт-фарадной характеристики.
Определение уровня легирования.
Статистические исследования однородности распределения напряжения плоских зон по образцу.
Квазистатические вольт-фарадные исследования по методу Берглунда.
Исследование подвижного заряда методом динамических вольт-амперных характеристик.
Термополевые испытания.
Исследование структур с толстым окислом.
Высокочастотные исследования структур с толстым окислом.
Исследование подвижного заряда методом термостимулированных ионных токов.
Заключение.
Смотрите также

Валиев К.А., Пашинцев Ю.И., Петров Г.В. Применение Контакта Металл-Полупроводник в Электронике

  • формат djvu
  • размер 3.17 МБ
  • добавлен 17 сентября 2011 г.
М., Сов. радио, 305 стр., 1981 г. Изложены физические основы работы контакта металл — полупроводник, р—п перехода. Рассматривается физическая модель р—п перехода и контакта металл — полупроводник. Подробно анализируются вольт-амперные характеристики контакта металл — полупроводник и р—п перехода с учетом всех основных эффектов, характерных для этих контактов. Рассматриваются эквивалентная схема и пробойные явления. Особое внимание уделяется омиче...

Гаврилов Р.А., Скворцов М.А. Технология производства полупроводниковых приборов

  • формат djvu
  • размер 3.81 МБ
  • добавлен 01 июля 2011 г.
Л.: «Энергия», 1968. - 240 с. В книге рассматриваются основные технологические процессы, используемые в производстве полупроводниковых приборов и полупроводниковых интегральных схем. Наибольшее внимание уделено процессам вплавления-рекристаллизации и диффузии, в результате проведения которых образуется электронно-дырочный переход. Планарной технологии, которая в последнее время стала широко применяться как для изготовления различных типов кремние...

Гаман В.И. Физика полупроводниковых приборов

  • формат djvu
  • размер 2.31 МБ
  • добавлен 28 мая 2009 г.
Томск, 1989. - 336 с. Один из лучших известных учебников по физике полупроводниковых приборов. Рассматриваются след. вопросы: контакты металл-полупроводник; электронно-дырочные переходы; пробой p-n-перхода; гетеропереходы; перех. процессы в п/п диодах; функциональные возможности п/п диодов; диоды для усиления и генерации СВЧ-мощности; биполярные и полевые транзисторы; приборы с ВАХ S-типа.

Литовченко В.Г., Горбань А.П. Основы физики микроэлектронных систем металл-диэлектрик-полупроводник

  • формат djvu
  • размер 3.83 МБ
  • добавлен 03 июля 2010 г.
К.: Наукова думка, 1978. - 316 с. Оглавление Биполярные генерационные процессы в структурах МДП Результаты экспериментального исследования биполярных генерационных процессов в кремниевых структурах МДП Взаимосвязь генерационных и рекомбинационных параметров структур МДП Перенос заряда и полевая генерация в диэлектриках Полевая генерация в полупроводниковой подложке Туннельная спектроскопия Туннельные генерационные явления в структурах МДП с толст...

Мамедов Р.К. Контакты Металл-Полупроводник с Электрическим Полем Пятен

  • формат pdf
  • размер 2.48 МБ
  • добавлен 17 сентября 2011 г.
Баку, БГУ, 2003, 231 стр. Рассмотрены электрофизические процессы в реальных контактах металл – полупроводник, в приконтакной полупроводниковой области которых возникает дополнительное электрическое поле контактной разности потенциалов (поле пятен) как между микроучастками с различными высотами потенциальных барьеров на контактной поверхности, так и между контактной поверхностью и примыкающими к ней свободными поверхностями металла и полупроводник...

Мощные полупроводниковые приборы

  • формат pdf
  • размер 8.16 МБ
  • добавлен 04 января 2010 г.
Автор неизвестен. Содержание: Принципы работы мощных полупроводниковых приборов Основы процесса переключения Принципы функционирования силовых полупроводниковых приборов Силовые электронные ключи Основы Области применения и ограничения в применении IGBT и MOSFET силовых модулей Силовые IGBT и MOSFET -Различие структур и функциональных принципов -Статический режим -Режим жесткого переключения MOSFET и IGBT -Улучшения в технологии MOSFET и IGBT...

Першенков В.С., Попов В.Д., Шальнов А.В. Поверхностные радиационные эффекты в элементах интегральных микросхем

  • формат djvu
  • размер 25.21 МБ
  • добавлен 30 ноября 2010 г.
М.: Энергоатомиздат, 1988, 256 с. Проанализировано влияние поверхностных радиационных эффектов в структуре диэлектрик-полупроводник на свойства элементов интегральных микросхем со структурой металл-диэлектрик-полупроводник и элементов биполярных интегральных микросхем. Рассмотрены физические модели, которые можно использовать при проектировании и создании интегральных микросхем, предназначенных для работы в условиях воздействия ионизирующего излу...

Родерик Э.Х. Контакты Металл-Полупроводник

  • формат djvu
  • размер 2.42 МБ
  • добавлен 17 сентября 2011 г.
М.: Радио и связь, 210 стр., 1982 г. Изложены физические основы работы контакта металл — полупроводник. Рассматривается физическая модель контакта металл — полупроводник. Подробно анализируются вольт-амперные характеристики контакта металл — полупроводник. Рассматриваются эквивалентная схема и параметры контактов. Особое внимание уделяется омическим контактам металл— полупроводник, диодам Шоттки и транзисторам с затвором Шоттки. Для студентов ра...

Справочник по МОП и IGBT транзисторам

Словарь
  • формат pdf
  • размер 507.5 КБ
  • добавлен 10 июня 2009 г.
Силовая электроника фирмы Harris. Таблицы параметров

Wolf S. Silicon Processing for the VLSI Era. Vol.2. Process Integration

  • формат pdf
  • размер 44.19 МБ
  • добавлен 30 января 2011 г.
Sunset Beach, CA: Lattice Press, 1990. - 785 p. (на англ яз. ). Книга известного американского специалиста проф. Стэнли Волфа является вторым томом широко известной серии из 4-х книг, охватывающей практически все аспекты технологии СБИС. Несмотря на то, что этот том написан в 1990 г., во многом книга не потеряла своей ценности и в настоящее время, в частности, из-за полноты охвата темы, а также ясного и точного стиля изложения. Книга посвящена во...