Радиоэлектроника
Реферат
  • формат doc
  • размер 47.44 КБ
  • добавлен 26 октября 2010 г.
Барбарош С.С. Реферат - Радиационные методы литографии
УГТУ-УПИ, ММФ, Электронное машиностроение, 2010

Введение
Литография — способ печати, при котором краска под давлением переносится с плоской печатной формы на бумагу. В основе литографии лежит физико-химический принцип, подразумевающий получение оттиска с совершенно гладкой поверхности (камня), которая, благодаря соответствующей обработке, приобретает свойство на отдельных своих участках принимать специальную литографскую краску.
Под литографией понимают:
вид тиражной графики, основанный на технике плоской печати;
способ плоской печати;
произведение искусства, выполненное техникой плоской печати.
планарную технологию, заключающуюся в формировании в активночувствительном слое, нанесенном на поверхность подложек, рельефного рисунка и последующего переноса этого рисунка на подложки. Применяется при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных микросхем, а также некоторых сверхпроводниковых наноструктур.
Литография была создана в 1796 году Алоизием Зенефельдером в Богемии, и это была первая принципиально новая техника печати после изобретения гравюры в XV веке.
Планарная технология — совокупность технологических операций, используемая при изготовлении планарных (плоских, поверхностных) полупроводниковых приборов и интегральных микросхем.
Похожие разделы
Смотрите также

Айнспрук Н. Браун Д. Плазменная технология в производстве СБИС

  • формат pdf
  • размер 68.06 МБ
  • добавлен 09 января 2012 г.
Монография, Москва, МИР, 1987, 471 с. Книга ведущих специалистов из США и Японии, в которой рассмотрены вопросы физики, химии и технологии применения плазменной обработки в производстве СБИС. Это своеобразная энциклопедия по физики, химии процессов осаждения, литографии и травления с применением ионно плазменных методов. Книга предназначена для специалистов в области физики и химии плазмы, технологии микроэлектроники, а также для студентов соотве...

Барбарош С.С. Литография высокого разрешения в технологии полупроводников

  • формат doc
  • размер 157.73 КБ
  • добавлен 26 октября 2010 г.
Введение. Оптическая литография объединяет в себе такие области науки, как оптика, механика и фотохимия. При любом типе печати ухудшается резкость края. Проецирование двумерного рисунка схемы ведет к уменьшению крутизны края, поэтому нужен специальный резист, в котором под воздействием синусоидально модулированной интенсивности пучка будет формироваться прямоугольная маска для последующего переноса изображения травлением или взрывной литографией...

Брюэр Дж. Р. (ред.) Электронно-лучевая технология в изготовлении микроэлектронных приборов

  • формат pdf
  • размер 55.93 МБ
  • добавлен 04 июня 2010 г.
Перевод с английского под редакцией Ф. П. Пресса. - М.: Радио и связь, 1984. - 336 с., ил. Рассмотрены процессы высокоразрешающей электронно-лучевой литографии, взаимодействие электронного луча с резистом, способы изготовления фотошаблонов и переноса изображения на полупроводниковую пластину. Даны примеры электронно-лучевых установок. Определены области наиболее целесообразного применения электронно-лучевой литографии. Для широкого круга инженер...

Брюэр Дж. Р., Гринич Д.С., Херриот Д.Р. и др. Электронно-лучевая технология в изготовлении микроэлектронных приборов

  • формат djv
  • размер 4.31 МБ
  • добавлен 12 августа 2010 г.
Под ред. Дж. Р. Брюэра: Пер. с англ. — М.: Радио и связь, 1984. 336 с, ил. Рассмотрены процессы высокоразрешающей электронно-лучевой литографии, взаимодействие электронного луча с резистом, способы изготовления фотошаблонов и переноса изображения на полупроводниковую пластину. Даны примеры электронно-лучевых установок, тенденции их усовершенствования. Определены области наиболее целесообразного применения электронно-лучевой литографии. Для широко...

Вологдин Э.Н., Лысенко А.П. Радиационные эффекты в некоторых классах полупроводниковых приборов

  • формат pdf
  • размер 949.27 КБ
  • добавлен 15 марта 2011 г.
М.: Научно-образовательный центр Московского региона в области фундаментальных проблем радиационной физики твердого тела и радиационного материаловедения. Московский государственный институт электроники и математики, 2001. - 70 с. В настоящем учебном пособии рассмотрены радиационные эффекты, происходящие в полевых транзисторах, выпрямительных диодах, солнечных батареях. Основным содержанием учебного пособия является рассмотрение вопросов влияния...

Готра З.Ю. Технология микроэлектронных устройств: Справочник

  • формат djvu
  • размер 9.34 МБ
  • добавлен 20 октября 2009 г.
М.: Радио и связь, 1991, 528 с. Рассмотрены механические, химические, ионные, плазменные, электронно-лучевые и другие методы обработки в технологии микроэлектронных устройств. Обобщены данные по выращиванию монокристаллов, диффузии, эпитаксии, ионной имплантации, технологии тонких пленок, литографии, сборке и герметизации. Значительное внимание уделено контролю, обеспечению качества и надежности при изготовлении микроэлектонных устройств. Для ин...

Мартынов В.В., Базарова Т.Е. Литографические процессы

  • формат djvu
  • размер 1.3 МБ
  • добавлен 24 декабря 2009 г.
В книге описаны современные методы литографии (фотолитография, рентгенолитография, электронолитография и ионоли-тография) и изготовления шаблонов при производстве полупроводниковых приборов и ИМС. Рассмотрено используемое автоматическое оборудование. Уделено внимание контролю размеров элементов изделий микроэлектроники. Приведены основные требования электронной гигиены и техники безопасности Издательство: Высшая школа Год издания: 1990 Страниц:...

Моряков О.С. Элионная обработка

  • формат djvu
  • размер 1.24 МБ
  • добавлен 31 августа 2011 г.
Серия "Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники". В 10 кн.: Учебник для ПТУ. Кн .7. - М.: Высшая школа, 1990. - 128 с.: ил. В книге описаны процессы воздействия на твердое тело электронных, ионных и оптических пучков, применяемые в микроэлектронике для травления диэлектриков,полупроводников, металлов, нанесения их тонких слоев на подложки и модификации поверхностных слоев полупроводниковых пластин. Приведены сведения по ио...

Реферат - Фототиристоры

Реферат
  • формат doc
  • размер 87.64 КБ
  • добавлен 08 февраля 2008 г.
Реферат по фототиристорам, описание, принцип действия, обозначения, рисунки.rn

Wang M. Lithography

Статья
  • формат pdf
  • размер 83.03 МБ
  • добавлен 07 декабря 2011 г.
InTech, 2010. - 656 pages. Michael Wang, Editor. ISBN 978-953-307-064-3. Сборник статей по новейшим методам литографии. Рассматриваемые темы включают ионно- и электроннолучевую литографию, лазерную литографию, иммерсионную фотолитографию, литографию в дальней ультрафиолетовой области спектра, наноимпринтную литографию, методы коррекции эффекта близости, изготовление проекционных объективов сверхвысокого разрешения, новейшие достижения в технологи...