Мартынов В.В., Базарова Т.Е. Литографические процессы

формат djvu
размер 1.3 МБ
добавлен 24 декабря 2009 г.

В книге описаны современные методы литографии (фотолитография, рентгенолитография, электронолитография и ионоли-тография) и изготовления шаблонов при производстве полупроводниковых приборов и ИМС. Рассмотрено используемое автоматическое оборудование. Уделено внимание контролю размеров элементов изделий микроэлектроники. Приведены основные требования электронной гигиены и техники безопасности

Издательство:
Высшая школа

Год издания: 1990
Страниц: 128
Язык: русский
Формат: DJVU
Размер: 1.3 mb

Смотрите также

Брюэр Дж. Р. (ред.) Электронно-лучевая технология в изготовлении микроэлектронных приборов

формат pdf
размер 55.93 МБ
добавлен 04 июня 2010 г.

Перевод с английского под редакцией Ф. П. Пресса. - М.: Радио и связь, 1984. - 336 с., ил. Рассмотрены процессы высокоразрешающей электронно-лучевой литографии, взаимодействие электронного луча с резистом, способы изготовления фотошаблонов и переноса изображения на полупроводниковую пластину. Даны примеры электронно-лучевых установок. Определены области наиболее целесообразного применения электронно-лучевой литографии. Для широкого круга инженер...

Брюэр Дж. Р., Гринич Д.С., Херриот Д.Р. и др. Электронно-лучевая технология в изготовлении микроэлектронных приборов

формат djv
размер 4.31 МБ
добавлен 12 августа 2010 г.

Под ред. Дж. Р. Брюэра: Пер. с англ. — М.: Радио и связь, 1984. 336 с, ил. Рассмотрены процессы высокоразрешающей электронно-лучевой литографии, взаимодействие электронного луча с резистом, способы изготовления фотошаблонов и переноса изображения на полупроводниковую пластину. Даны примеры электронно-лучевых установок, тенденции их усовершенствования. Определены области наиболее целесообразного применения электронно-лучевой литографии. Для широко...

Минайчев В.Е. Нанесение плёнок в вакууме

формат djvu
размер 1.06 МБ
добавлен 31 августа 2011 г.

Серия "Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники". В 10 кн.: Учебник для ПТУ. Кн. 6. - М.: Высшая школа, 1989. - 96 с.: ил. В книге описаны технологические процессы нанесения тонких пленок в вакууме в производстве полупроводниковых приборов и ИМС: термическое испарение и ионное распыление (в том числе диодное и магнетронное распыление, высокочастотный и реактивный методы ионного распыления). Рассмотрены основы построения ва...

Никифорова-Денисова С.Н. Механическая и химическая обработка

формат djvu
размер 914.91 КБ
добавлен 31 августа 2011 г.

Серия "Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники". В 10 кн.: Учебник для ПТУ. Кн .4. - М.: Высшая школа, 1989. - 95 с.: ил. В книге описаны технологические процессы механической и химической обработки полупроводниковых пластин: резка,шлифовка, полировка, скрайбирование, разламывание, химическая очистка и травление. Приведены режимы обработки, характеристики используемого оборудования, последовательность и особенности выполн...

Никифорова-Денисова С.Н., Любушкин Е.Н. Термические процессы

формат djvu
размер 907.3 КБ
добавлен 31 августа 2011 г.

Серия "Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники". В 10 кн.: Учебник для ПТУ. Кн. 5. - М.: Высшая школа, 1989. - 96 с.: ил. В книге описаны технологические процессы формирования диэлектрических и поликристаллических кремниевых пленок на поверхности полупроводниковых пластин, а также эпитаксиального наращивания. Приведены режимы обработки, характеристики используемого оборудования, последовательность и особенности выполнения...

Пасынков В.В., Чиркин Л.К. Полупроводниковые приборы

формат djvu
размер 2.81 МБ
добавлен 14 сентября 2007 г.

Хороший и достаточно емкий материал по полупроводниковым приборам В книге рассмотрены физические процессы в полупроводниковых приборах и элементах интегральных микросхем, их основные свойства, характеристики и параметры, конструктивно-технологические особенности полупроводниковых приборов в интегральном исполнении и общие принципы микроэлектроники. Книга предназначена для студентов, обучающихся по образовательным программам подготовки бакалавро...

Пирс К., Адамс А., Кац Л., Цай Дж., Сейдел Т., Макгиллис Д. Технология СБИС (книга 1)

формат djvu
размер 4.45 МБ
добавлен 02 октября 2009 г.

В 2-х кн. Кн. 1. Пер. с англ. /Под ред. С. Зи - М.: Мир, 1986г. , 404 стр. В книге ведущих американских специалистов освещены вопросы изготовления кремниевых ИС. В книге 1 рассмотрены вопросы получения монокристаллов кремния, подготовки подложек, выращивания эпитаксиальных слоев, осаждения пленок различных материалов, термического окисления, дифузии, ионной имплантации, а также литографические методы формирования топологических рисунков с субмикр...

Реферат - Электрический взрыв проводников

Реферат

формат doc
размер 81.5 КБ
добавлен 29 апреля 2011 г.

Содержание. Электрический взрыв проводников. Моделирование ЭВП. Процессы протекающие при ЭВП. Основные направления работ по ЭВП. Применение ЭВП. Заключение. Список использованной литературы.

Усов В.С., Мартынов Б.А., Новиков Ю.Н.-Транзисторные усилители, ключи, импульсные устройства.Учебное пособие и методические указания

Практикум

формат pdf
размер 949.71 КБ
добавлен 13 марта 2011 г.

Усилительные свойства биполярных и полевых транзисторов, транзисторные усилители Лабораторный практикум СПбГПУ, физико-технический и радио-физический факультеты 39стр

Фалькевич Э.С. и др. Технология полупроводникового кремния

формат djvu
размер 4.95 МБ
добавлен 02 декабря 2009 г.

М.: Металлургия, 1992, - 408 с. Изложены физико-химические основы технологии полупроводникового кремния, рассмотрены свойства технологических материалов, влияние структурных несовершенств и термической обработки на электрофизические и физико-химические свойства кремния. Описаны процессы получения кремния и оборудование, в том числе вакуумное и криогенное. Рассмотрены способы получения кремния с заранее заданными свойствами, приведены области его...