154
Эти пленки очень перспективны для создания магнитной памяти и магниторези-
стивных сенсоров [1]. Несмотря на выдающиеся свойства нанокластерных мате-
риалов, процесс их создания все еще находится на стадии разработки. Сущест-
вующие на данный момент способы создания таких пленок являются трудоемки-
ми и медленными, а получившиеся объекты обладают недостаточно высоким ка-
чеством. Одним
из перспективных развивающихся методов создания нанокла-
стерных пленок является совместное химическое осаждение нанокластеров и ма-
териала матрицы из газовой фазы на плоскую поверхность [2]. В работе представ-
лены результаты моделирования процесса совместного осаждения с помощью
оригинального программного пакета, разработанного в ИОФРАН.
В работе разработана модель, описывающая поведение нанокластеров
в процессе осаждения и в процессе образования нанокластерной пленки.
Проанализированы зависимости параметров получившейся пленки, в за-
висимости от параметров нанокластеров, транспортного газа, материала
подложки и других внешних параметров системы.
Движение несущего газа в камере осаждения рассчитано с помощью
уравнения Навье-Стокса. Для решения задачи
в учет брались силы, дейст-
вующие со стороны потока, электрические силы, силы Ван-дер-Ваальса,
стохастическая сила. С помощью полученных линий тока транспортного
газа и анализа сил, действующих на нанокластеры, задача была разбита на
два этапа. Процесс движения нанокластеров был описан с помощью мак-
роскопического подхода, основанного на уравнении Эйнштейна-
Смолуховского, а также с помощью микроскопического подхода, осно-
ванного на уравнении Ланжевена.
В рамках данного исследования был разработан численный аппарат
для расчета движения нанокластеров в несущем газе, получены зависимо-
сти параметров нанокластерных пленок в зависимости от материала, раз-
мера, заряда нанокластеров, осаждаемых в несущем в газе и осевших на
подложке, параметров
материала несущего газа и подложки и других па-
раметров системы. Найдены оптимальные параметры системы. Проводит-
ся сопоставление результатов моделирования с экспериментом.
Разработанный программный пакет позволяет оптимизировать пара-
метры осаждающей установки и проводить предварительный компьютер-
ный дизайн новых нанокластерных материалов.
Список литературы
1.
J-Y. Zhang and Ian W. Boyd, " Efficient excimer UV sources from a dielectric barrier dis-
charge in rare gas/halogen mixtures", J. Appl. Phys.80 (1996) 633-638
2.
Zengtao Liu, Chungho Lee, Venkat Narayanan, Gen Pei, and Edwin Chihchuan Kan,
“Metal Nanocrystal Memories-Part I: Device Design and Fabrication, IEEE Transactions on Elec-
tron Devices, 49, 1606, 2002.